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J-GLOBAL ID:202002249694115211   整理番号:20A2506650

フォトニック集積回路の光学構造における損失最小化のためのフォトリソグラフィー最適化のためのソフトウェア複合体のための地上および問題ステートメント【JST・京大機械翻訳】

Grounds and problem statement for software complex for photolithography optimization for minimization of losses in optical structures of photonic integrated circuits
著者 (6件):
資料名:
巻: 939  号:ページ: 012070 (8pp)  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5559A  ISSN: 1757-8981  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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光学部品の損失はフォトニック集積回路(PIC)の開発における主要な障害である。これは,開発者が光方式に付加的信号利得要素を含むようにする。信号損失の主要なおよび最適化可能な因子の一つは,光学部品の側壁粗さである。ラインエッジ粗さ(LER)を引き起こす因子を解析した後,フォトリソグラフィーナノ構造形成中の粗さ出現プロセスの基本モデルを開発した。作製した光学構造における光損失を最小化するために,フォトリソグラフィープロセスを最適化する方法を提案した。このアプローチに基づくソフトウェア複合体は現在開発中である。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 

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