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J-GLOBAL ID：202002249750003547   整理番号：20A1421430

溶液プラズマは十面体BiVO_4のファセット依存光活性を促進する【JST・京大機械翻訳】

Solution plasma boosts facet-dependent photoactivity of decahedral BiVO₄

著者 (10件)： Che Guangshun (Key Laboratory of UV-Emitting Materials and Technology of Chinese Ministry of Education, Northeast Normal University, 5268 Renmin Street, Changchun 130024, China) ,  Wang Dandan (Key Laboratory of Functional Materials Physics and Chemistry of the Ministry of Education, Jilin Normal University, Siping 136000, China) ,  Wang Changhua (Key Laboratory of UV-Emitting Materials and Technology of Chinese Ministry of Education, Northeast Normal University, 5268 Renmin Street, Changchun 130024, China) ,  Yu Fei (Key Laboratory of UV-Emitting Materials and Technology of Chinese Ministry of Education, Northeast Normal University, 5268 Renmin Street, Changchun 130024, China) ,  Li Dashuai (Key Laboratory of UV-Emitting Materials and Technology of Chinese Ministry of Education, Northeast Normal University, 5268 Renmin Street, Changchun 130024, China) ,  Suzuki Norihiro (Photocatalysis International Research Center, Research Institute for Science & Technology, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan) ,  Terashima Chiaki (Photocatalysis International Research Center, Research Institute for Science & Technology, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan) ,  Fujishima Akira (Photocatalysis International Research Center, Research Institute for Science & Technology, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan) ,  Liu Yichun (Key Laboratory of UV-Emitting Materials and Technology of Chinese Ministry of Education, Northeast Normal University, 5268 Renmin Street, Changchun 130024, China) ,  Zhang Xintong (Key Laboratory of UV-Emitting Materials and Technology of Chinese Ministry of Education, Northeast Normal University, 5268 Renmin Street, Changchun 130024, China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 397  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近,露出した{010}と{110}ファセットの電荷分離の魅力的な操作のために,脱殻BiVO_4はますます注目を集めている。しかし,ファセット接合によってのみ駆動される電荷分離は,2つの露出したファセットの比較的小さなエネルギー差によって制限される。電荷分離のさらなる促進は,簡単な後処理表面活性化による挑戦である。ここで,溶液プラズマを利用して,合成したままの十面体BiVO_4を活性化し,可視光下での水の酸化から1.5倍高い酸素発生速度を導いた。このシステムは,BiVO_4懸濁液中でパルス高電圧放電を用いて,溶液中のプラズマを生成し,特にバナジウム空孔を導入するために効率的である。これは,バナジウム空孔による電子捕獲をもたらし,BiVO_4の電荷分離は{110}と{010}ファセット上の活性サイトの空間分離によって,{010}と{110}曝露ファセット上のPtとMnO_xの選択的堆積によってそれぞれ明らかにされた。採用した戦略は,溶液プラズマが表面活性化においてよく作用し,多面体光触媒のファセット依存性光活性をブースティングするのに有望であることを示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エネルギーギャップ ,  懸濁液 ,  *プラズマ ,  電子捕獲 ,  放電 ,  白金 ,  バナジウム ,  活性部位 ,  可視光 ,  パルス ,  *ファセット ,  光触媒 ,  酸素発生 ,  電荷分離
準シソーラス用語： 水分解 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 水分解 ,  BiVO_4 ,  バナジウム空孔 ,  溶液プラズマ ,  ファセット依存性

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  触媒操作  (XE01050T)

タイトルに関連する用語 (5件)： 溶液プラズマ ,  十面体 ,  ファセット ,  光活性 ,  促進