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J-GLOBAL ID：202002252686071056   整理番号：20A1011676

緩衝ふっ化水素酸に曝露した構造タンタル膜の圧縮と減圧【JST・京大機械翻訳】

Compression and decompression of structural tantalum films exposed to buffered hydrofluoric acid

著者 (5件)： Ni Longchang ( Department of Mechanical Engineering, Carnegie Mellon University, Pittsburgh, PA 15213, United States of America) ,  Karagoz Burcu ( Department of Chemical Engineering, Carnegie Mellon University, Pittsburgh, PA 15213, United States of America) ,  Gellman Andrew J ( Department of Chemical Engineering, Carnegie Mellon University, Pittsburgh, PA 15213, United States of America) ,  Gellman Andrew J ( Wilton E. Scott Institute for Energy Innovation, Carnegie Mellon University, Pittsburgh, PA 15213, United States of America) ,  De Boer Maarten P ( Department of Mechanical Engineering, Carnegie Mellon University, Pittsburgh, PA 15213, United States of America)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 30  号： 5  ページ： 055011 (9pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 溶融温度が高く,熱膨張係数が大きい耐火金属として,タンタル(Ta)はMEMSにおける構造材料として非常に興味が持たれている。しかし,自立構造を有する主要な問題の一つは,残留応力の制御である。ここでは,緩衝フッ化水素(BHF)酸放出段階後に引張座屈下でTa膜から作られた懸濁固定梁が圧縮に対する応力の大きな変化を意味することを観察した。一軸応力の変化はBHF曝露時間に比例し,150分後に-1GPaに達した。金属薄膜には多くの残留応力源があるが,BHFによる水素(H)注入がこの変化の主原因であることを明確に実証した。さらに,高真空環境において500°Cでの脱ガスにより残留応力が大きく回復できることを示した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 懸濁液 ,  残留応力 ,  フッ化水素 ,  脱ガス ,  固定梁 ,  融点 ,  *減圧 ,  高真空 ,  金属薄膜 ,  高融点金属 ,  引張 ,  熱膨張係数 ,  構造材料 ,  MEMS
準シソーラス用語： *フッ化水素酸 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 緩衝 ,  ふっ化水素酸 ,  曝露 ,  タンタル膜 ,  減圧