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J-GLOBAL ID：202002253086909492   整理番号：20A0265097

酸素とポリスチレン及びポリエチレン重合体膜との相互作用 機構研究【JST・京大機械翻訳】

Interaction of oxygen with polystyrene and polyethylene polymer films: A mechanistic study

著者 (12件)： Fukunaga Yusuke (Department of Electrical Engineering and Computer Science, Nagoya University, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Longo Roberto C. (Tokyo Electron America, Inc., 2400 Grove Blvd., Austin, Texas 78741, USA) ,  Ventzek Peter L. G. (Tokyo Electron America, Inc., 2400 Grove Blvd., Austin, Texas 78741, USA) ,  Lane Barton (Tokyo Electron America, Inc., 2400 Grove Blvd., Austin, Texas 78741, USA) ,  Ranjan Alok (Tokyo Electron America, Inc., 2400 Grove Blvd., Austin, Texas 78741, USA) ,  Hwang Gyeong S. (McKetta Department of Chemical Engineering, The University of Texas at Austin, Austin, Texas 78712, USA) ,  Hartmann Gregory (McKetta Department of Chemical Engineering, The University of Texas at Austin, Austin, Texas 78712, USA) ,  Tsutsumi Takayoshi (Department of Electrical Engineering and Computer Science, Nagoya University, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Ishikawa Kenji (Department of Electrical Engineering and Computer Science, Nagoya University, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Kondo Hiroki (Department of Electrical Engineering and Computer Science, Nagoya University, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Sekine Makoto (Department of Electrical Engineering and Computer Science, Nagoya University, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Hori Masaru (Department of Electrical Engineering and Computer Science, Nagoya University, Nagoya 464-8603, Japan)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 127  号： 2  ページ： 023303-023303-9  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,先進表面診断と組み合わせた第一原理計算を用いて,半導体デバイス製造における先進パターン形成のための関心のある有機膜とのプラズマ酸素相互作用の機構を明らかにした。X線光電子分光法(XPS)と診断された酸素プラズマ曝露ポリスチレン膜の組み合わせからの結果と有機膜(ポリスチレン,ポリエチレン,および誘導体)の第一原理モデリングは,有機膜が酸素原子によってどのように酸化されるかについての洞察を提供する。XPS測定により,未処理およびアルゴン照射したポリスチレン試料の両方への酸素曝露後に,C-O構造の急速な形成およびそれらの飽和が示された。量子力学計算により,C-OH形成は,以前に形成されたダングリングボンドに頼ることなく,即時になることが確認された。元のエチレン炭素鎖の切断には複数の酸素の影響が必要である。したがって,エチレン膜は安定であるが,水とC=Oの形成によるポリオール形成の前に,より多くの可能性のある鎖が壊れるポリオールに変換できる。反対に,隣接C=O結合を持つ中間化合物は安定構造を形成しない。XPS測定とモデリングの組合せは,ポリスチレンとポリエチレンの酸化が水素飽和と脱水素(アルゴンイオンプラズマ衝突後)表面の両方で自己制限されることを意味する。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 安定構造 ,  プラズマ曝露 ,  パターン形成 ,  アルゴン ,  *相互作用 ,  ポリオール ,  水素 ,  *ポリスチレン ,  脱水素 ,  モデリング ,  プラズマ ,  *ポリエチレン ,  ダングリングボンド ,  X線光電子分光法 ,  *酸素

分類 (2件)： 酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  誘電体一般  (BM05010F)

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸素 ,  ポリスチレン ,  ポリエチレン ,  重合体 ,  相互作用 ,  研究