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J-GLOBAL ID:202002254560098308   整理番号:20A1762220

Ti-15V-3Cr-3Al-3Sn合金および工業用純チタンのスパッタエッチングによる微細孔の形成

Formation of Fine Holes by Sputter Etching of Ti-15V-3Cr-3Al-3Sn Alloy and Commercially Pure Titanium
著者 (4件):
資料名:
巻: 84  号:ページ: 167-175(J-STAGE)  発行年: 2020年 
JST資料番号: G0023A  ISSN: 0021-4876  CODEN: NIKGAV  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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SUS304ステンレス鋼カソード円板上に設置したTi-15V-3Cr-3Al-3Sn合金(15-3合金)試験片,およびバナジウム(V),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),タングステン(W)円板上にそれぞれ設置した市販の純チタン(純Ti)試験片にアルゴンイオンスパッタエッチングを適用した。SUS304円板上の15-3合金およびVまたはTa円板上の純Ti試験片のスパッタエッチングは,0.9~3.6ksの250Wのスパッタ電力で500nmより小さい直径の微細で緻密な孔を形成した。一方,Nb,Mo,またはW円板上の純Ti試料のスパッタエッチングは,1μmより小さいサイズの微細な柱状またはリッジ状の突起物を形成した。EDX分析により,純Ti試験片には一定量のV,Ta,Nb,MoまたはWが認められたので,微細孔あるいは突起物の形成は,各カソード円板から粒子がTiマトリックスに溶解して,組成とスパッタ速度が異なる2つの微細領域を形成することに起因し,すなわち,少量のVまたはTa組成を含む領域において,Ti原子の優先的なスパッタリングによって孔が形成された。15-3合金では,微細孔の形成は,より小さなVを含む領域におけるTi原子の優先スパッタリングに起因すると考えられた。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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気相めっき  ,  変態組織,加工組織 
引用文献 (41件):
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