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J-GLOBAL ID：202002254946647323   整理番号：20A2442668

混合配位子亜鉛-オキソクラスタ:高分解能ナノリソグラフィーのための効率的化学【JST・京大機械翻訳】

Mixed-ligand zinc-oxoclusters: efficient chemistry for high resolution nanolithography

著者 (6件)： Thakur Neha (Advanced Research Center for Nanolithography, Science Park 106, Amsterdam 1098XG, The Netherlands. [e-mail] [e-mail]) ,  Bliem Roland ,  Mochi Iacopo ,  Vockenhuber Michaela ,  Ekinci Yasin ,  Castellanos Sonia
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 8  号： 41  ページ： 14499-14506  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外リソグラフィー(EUVL)は集積回路(IC)の製作のために半導体産業で使用される現在の技術である。その最適操作のために,サブ10nmパターンを得るためにEUV光子(92eV)を効率的に使用できるフォトレジスト材料が必要である。しかし,EUV照射により誘導される複雑な機構の理解が不足している。本研究では,EUVLに対する最先端の要求を満足する新しいZnベースオキソクラスタの能力を調べた。この分子材料は,Zn,F,およびO原子の含有量,および小さな分子サイズを与える高い分解能により,高いEUV吸収率を提供すると想像された。EUVに対する高感度/反応性は,メタクリレートとトリフルオロアセタート配位子からなる混合配位子有機シェルを通して達成される。この新しいレジストは,約20mJcm-2で22nm半ピッチ線/空間パターンに達する顕著なリソグラフィー性能を示した。EUV曝露試料の分光法研究は,フッ化物イオンが形成される予想外の反応経路を明らかにした。これはEUV照射による無機レジストにおける溶解度スイッチを効率的に誘導する前例のない方法である。Copyright 2020 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 吸収係数 ,  集積回路 ,  溶解度 ,  分解能 ,  フォトレジスト ,  レジスト ,  *リソグラフィー ,  高感度 ,  半導体工業 ,  *高分解能 ,  分子サイズ ,  反応経路 ,  極端紫外線
準シソーラス用語： *ナノリソグラフィー ,  極端紫外線リソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 発光素子  (NC03082G) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

タイトルに関連する用語 (6件)： 配位子 ,  亜鉛 ,  クラスタ ,  高分解能 ,  ナノリソグラフィー ,  化学