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J-GLOBAL ID：202002255594560323   整理番号：20A0566858

高圧合成NbP₂およびNiN₂の電子構造

著者 (11件)： 川田拓也 (名大 院) ,  加藤大貴 (名大 院) ,  加藤政彦 (名大 院) ,  曽田一雄 (名大 院) ,  曽田一雄 (名大 SR) ,  曽田一雄 (あいち SR) ,  西堂園啓太 (名大 院) ,  寺部俊紀 (名大 院) ,  丹羽健 (名大 院) ,  長谷川正 (名大 院) ,  池本夕佳 (JASRI)
資料名： 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web)  (日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集(Web))
巻： 32nd  ページ： ROMBUNNO.10P085 (WEB ONLY)  発行年： 2019年01月09日 
JST資料番号： U1891A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電子構造 ,  赤外分光法 ,  *ニオブ化合物 ,  窒化物 ,  リン化物 ,  密度汎関数法 ,  APW法 ,  化学合成 ,  放射光施設 ,  *状態密度 ,  第一原理計算 ,  *高圧合成 ,  SPring-8 ,  赤外顕微分光法 ,  FPLAPW法
準シソーラス用語： 顕微赤外分光法 ,  *二窒化ニオブ ,  *二リン化ニオブ ,  一般化勾配近似 ,  FLAPW法

分類 (1件)： 金属結晶の電子構造  (BM02050C)

タイトルに関連する用語 (2件)： 高圧合成 ,  電子構造