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J-GLOBAL ID：202002256294377483   整理番号：20A2617893

Argonクラスタイオンによるカリウムチタニルリン酸塩スパッタリング特性【JST・京大機械翻訳】

Potassium Titanyl Phosphate Sputtering Features by Argon Cluster Ions

著者 (3件)： Nikolaev Ivan (Novosibirsk State University,1 Pirogov Str., Novosibirsk,Russia,630090) ,  Korobeishchikov Nikolay (Novosibirsk State University,1 Pirogov Str., Novosibirsk,Russia,630090) ,  Roenko Maxim (Novosibirsk State University,1 Pirogov Str., Novosibirsk,Russia,630090)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： EFRE  ページ： 526-528  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,アルゴンクラスタイオンビームの処理におけるチタン酸カリウムチタン単結晶の表面形態の変化の特徴を考察した。クラスタ中の原子当たりの小さなエネルギーでのターゲット表面のスパッタリングプロセスは,表面粗さのサブナノメートルレベルをもたらすことを実証した。アルゴンクラスタ中の原子当たりの小さなエネルギーについて,チタン酸カリウムのスパッタリング収率とエッチング速度を決定した。表面品質の複雑な特性は,アルゴンクラスタイオンによるKTP単結晶の表面平滑化効果を研究するための表面粗さのパワースペクトル密度関数である。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： スパッタリング ,  単結晶 ,  アルゴン ,  チタン ,  表面性状 ,  *クラスタ ,  パワースペクトル ,  *クラスタイオン
準シソーラス用語： 表面形態 ,  エッチング速度 ,  密度関数 ,  クラスタイオンビーム ,  チタン酸カリウム ,  ならし効果 ,  スパッタリング収率 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 音声処理  (JE05000E) ,  医用画像処理  (JE04020T) ,  符号理論  (ND02030R) ,  NMR一般  (BM07041R) ,  専用演算制御装置  (JC04030Y)

タイトルに関連する用語 (4件)： クラスタイオン ,  酸 ,  塩 ,  スパッタリング