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J-GLOBAL ID：202002257516280575   整理番号：20A0395006

液体中のパルスレーザ融解によるケイ素サブミクロン粒子の形成に及ぼすふっ化水素酸前処理の影響とそれらの光散乱特性【JST・京大機械翻訳】

Hydrofluoric acid pretreatment effect on the formation of silicon submicrometer particles by pulsed laser melting in liquid and their optical scattering property

著者 (3件)： Wakatsuki Yuya (Graduate School of Engineering, Hokkaido University, Kita 13, Nishi 8, Kita-ku, Sapporo, Hokkaido 060-8628, Japan) ,  Ishikawa Yoshie (Nanomaterials Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Central 5, 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Koshizaki Naoto (Graduate School of Engineering, Hokkaido University, Kita 13, Nishi 8, Kita-ku, Sapporo, Hokkaido 060-8628, Japan)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 31  号： 9  ページ： 095601 (9pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近,誘電体ナノフォトニック機能を理解するために,シリコン(Si)サブミクロン球状粒子の光学特性を調べた。ここでは,Nd:YAGレーザの第三高調波を通して66mJパルス~-1cm~-2でレーザを照射することにより,脱イオン水またはエタノール中でのパルスレーザ融解を用いて高い散乱効率をもつSiサブミクロン球状粒子を作製した。フッ化水素酸前処理は生Si粒子の表面酸化物を除去するのに有効であった。良く結晶化した球状粒子を得るためのレーザフルエンスは20mJパルス~-1cm-2に低下し,得られた粒子の結晶性は望ましくない副産物を形成することなく大きく改善された。粒子の量は,従来の製造技術によって得られたものよりはるかに多かった。粒子サイズはレーザフルエンスを変えることにより制御でき,コロイド溶液の散乱波長はレーザフルエンスを増加させることにより可視から近赤外領域まで制御できる。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ケイ素 ,  前処理 ,  *パルス ,  結晶化 ,  粒度 ,  波長 ,  *微粒子 ,  *レーザ融解 ,  結晶度 ,  *レーザ ,  誘電体 ,  光学的性質 ,  *散乱 ,  Nd-YAGレーザ ,  生産技術

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (8件)： 液体中 ,  パルス ,  レーザ融解 ,  ケイ素 ,  サブミクロン粒子 ,  ふっ化水素酸 ,  前処理 ,  散乱特性