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J-GLOBAL ID:202002258031169390   整理番号:20A2446260

誘導プラズマイオン源における高周波およびプラズマ結合に関するノート【JST・京大機械翻訳】

Notes on Radiofrequency and Plasma Coupling in Inductive Plasma Ion Sources
著者 (1件):
資料名:
巻: 2020  号: URSI GASS  ページ: 1-4  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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波およびプラズマ相互作用に関する広大な文献において,皮膚深さ,確率的加熱および高周波(rf)磁場効果は,シミュレーションにおける重要因子として現れ,有効な衝突速度モデルに依存する:閉形式および普遍的グラフを確率的加熱に対して与えた。プラズマとrf計算の間の反復に基づくシミュレーションコードを呼び,簡単な誘導イオン源設計に対して典型的な結果を示す。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
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図形・画像処理一般 
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