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J-GLOBAL ID：202002261932575419   整理番号：20A0405456

ポリメタクリル酸メチル表面のプラズマCVD/エッチング 光学的および構造的キャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

Plasma CVD/etching of Poly(methyl methacrylate) surface: optical and structural characterizations

著者 (5件)： Saloum S (Physics Department, Atomic Energy Commission, P O Box 6091 Damascus, Syria) ,  Shaker S A (Physics Department, Atomic Energy Commission, P O Box 6091 Damascus, Syria) ,  Hussin R (Physics Department, Atomic Energy Commission, P O Box 6091 Damascus, Syria) ,  Obaid A (Physics Department, Atomic Energy Commission, P O Box 6091 Damascus, Syria) ,  Alkafri M N (Physics Department, Atomic Energy Commission, P O Box 6091 Damascus, Syria)
資料名： Materials Research Express  (Materials Research Express)
巻： 6  号： 10  ページ： 105371 (9pp)  発行年： 2019年 
JST資料番号： W5570A  ISSN： 2053-1591  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(メタクリル酸メチル)(PMMA)光学高分子表面を,3つの異なるプラズマ環境において,RF遠隔プラズマシステムで処理した。第一に,その表面をプラズマ重合有機シリコン前駆体(ヘキサメチルジシラザン:HMDSNで被覆し,第二に,PMMA表面を酸素プラズマに曝露し,第三にSF_6プラズマをPMMA表面処理に用いた。PMMA表面特性に及ぼすプラズマ処理の影響を,異なる特性化技術を用いてモニターした:光学反射率,水接触角測定を用いた濡れ性,原子間力顕微鏡(AFM)を用いた表面形態およびFourier変換赤外分光法(ATR-FTIR)の減衰全反射率を用いた化学構造。異なる特性間の相関を議論した。結果は,プラズマ処理後の表面形態と化学構造の誘起変化に従って,プラズマ表面処理による光学的および濡れPMMA表面特性の調整の可能性を明らかにした。特に興味深い結果は,PMMA表面O_2プラズマ曝露後の最低反射率とSF_6プラズマ表面処理後に得られた高疎水性表面であった。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： プラズマ重合 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  キャラクタリゼーション ,  表面処理 ,  原子間力顕微鏡 ,  濡れ ,  疎水性 ,  前駆体 ,  プラズマ曝露 ,  *プラズマ ,  *プラズマCVD ,  FTIR分光法 ,  *エッチング ,  反射率 ,  プラズマ処理

分類 (3件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (5件)： ポリメタクリル酸メチル ,  プラズマCVD ,  エッチング ,  光学 ,  キャラクタリゼーション