文献
J-GLOBAL ID:202002263173310827   整理番号:20A2786907

機械的せん断応力に起因する(100)シリコンにおけるHall効果デバイスの高感度方向のドリフト【JST・京大機械翻訳】

Drift of the sensitive direction of Hall-effect devices in (100)-silicon caused by mechanical shear stress
著者 (4件):
資料名:
巻: 174  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: H0225A  ISSN: 0038-1101  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
従来のHall効果デバイスを3D空間における単一磁場成分に応答するように設計した。しかし,立方晶結晶中のプラスチックカプセル化Hall効果デバイスを,あまり明確で不安定な機械的せん断応力に曝すと,望ましくない垂直磁場成分の小さな部分は,Hall出力信号で現れる。数学的に,そのようなクロストークは機械的応力から生じ,磁場のパワーにおけるTaylor級数として表現できない。偶数電力はゼロ機械的応力でよく知られた平面Hall効果である。実際には,広く使われているスピニング電流方式によって排除されるので,偶数次数の電力は無関係である。本論文では,磁気クロストークの奇数電力とそれらのドリフト対機械的応力について述べた。この効果はHall板では小さいが,(100)シリコンでは垂直Hallデバイスで大きい。それはピエゾ抵抗と圧電Hallテンソルによって完全に記述される。数値シミュレーションと測定の結果を示した。薄いデバイスは厚いデバイスよりもあまり影響されない。磁気角センサが垂直Hallデバイスでできれば,面内せん断応力は小さな直交性誤差をもたらす。本論文は,そのような剪断応力誘起直交性誤差を除去する補償回路の基礎を築く。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ 

前のページに戻る