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J-GLOBAL ID:202002264140803785   整理番号:20A0217453

大気圧プラズマジェットを用いた生体適合性材料に対するマスクフリープラズマパターン形成【JST・京大機械翻訳】

Mask-Free Plasma Patterning for Biocompatible Material Using Atmospheric Pressure Plasma Jet
著者 (8件):
資料名:
巻:号:ページ: 108-112  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2475A  ISSN: 2469-7311  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,プラズマパターン形成を,マスクを使用せずにポリジメチルシロキサン(PDMS)を用いて構築した生体適合性マイクロデバイス上の大気圧プラズマジェット(APPJ)を用いて調べた。本論文は,マスクによる従来の低圧プラズマパターニングに対する代替アプローチを同定することを目的とした。この方法の信頼性を,異なる照射時間と異なるガス流量でのPDMS表面の親水化を通して調べた。20kV_P-Pの印加電圧を有する並列電極配置を用いてAPPJを発生させた。従来の低圧プラズマへの曝露下での挙動と同様に,PDMSの表面はAPPJを用いて照射すると親水性になった。OH,N_2,Oなどの表面修飾ラジカルを発光分光法により同定した。照射時間が増加すると,接触角が減少すると親水化領域はより大きくなった。加えて,APPJ照射PDMS基質は,蛍光観察を用いたヒト誘導多能性幹細胞(hiPSC)における遺伝子移動の接着を示した。これらの結果は,マスクフリープラズマパターン形成がAPPJを用いて達成できることを確認した。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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医用画像処理 
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