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J-GLOBAL ID：202002264353646061   整理番号：20A1030284

Gd/YbAl_3熱電-磁気熱量ヘテロ界面の原子分解微細構造と化学反応機構【JST・京大機械翻訳】

Atomic-resolution fine structure and chemical reaction mechanism of Gd/YbAl₃ thermoelectric-magnetocaloric heterointerface

著者 (16件)： Chen Changkun (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Sang Xiahan (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Sang Xiahan (NRC (Nanostructure Research Centre), Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Cui Wenjun (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Cui Wenjun (NRC (Nanostructure Research Centre), Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Xing Lin (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Nie Xiaolei (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Zhu Wanting (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Wei Ping (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Wei Ping (NRC (Nanostructure Research Centre), Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Hu Zhi-Yi (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Hu Zhi-Yi (NRC (Nanostructure Research Centre), Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Zhang Qingjie (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Van Tendeloo Gustaaf (NRC (Nanostructure Research Centre), Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China) ,  Van Tendeloo Gustaaf (EMAT (Electron Microscopy for Materials Science), University of Antwerp, Antwerp, B-2020, Belgium) ,  Zhao Wenyu (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan, 430070, China)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 831  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱電材料と磁気熱量材料は固体冷凍応用の有望な候補である。熱電効果と磁気熱量効果の組合せは,より効率的な冷凍技術につながる可能性がある。750°Cと50MPaの焼結条件を用いて,高い磁気熱量性能を有する良好な低温熱電性能とGdミクロスフェアを有するYbAl_3マトリックスを用いて,Gd/YbAl_3複合材料を設計し,成功裏に合成した。収差補正走査透過型電子顕微鏡(STEM)を用いて,GdとYbAl_3の間のヘテロ界面が5つの連続した界面層から成ることを発見した:GdAl_3,GdAl_2,GdAl,Gd_3Al_2,およびGd_3Al。Al原子の拡散はこれらの界面層の形成に重要な役割を果たすが,YbまたはGdは層間拡散に関与しない。本研究は,熱電-磁気熱量ハイブリッド冷凍応用のための高性能複合材料のさらなる最適化と設計のための重要な構造情報を提供する。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 最適化 ,  焼結 ,  複合材料 ,  *イッテルビウム ,  *ガドリニウム ,  凍結 ,  *磁気 ,  磁気熱量効果 ,  *反応機構 ,  熱電効果 ,  冷凍技術 ,  収差補正 ,  熱電材料
準シソーラス用語： 界面層 ,  *ヘテロ界面 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Gd/YbAl_3 ,  熱電-磁気熱量ヘテロ界面 ,  原子分解微細構造 ,  固体冷却

分類 (2件)： 無機化合物のルミネセンス  (BM08093J) ,  塩  (CD01050V)

タイトルに関連する用語 (8件)： Gd ,  磁気 ,  熱量 ,  ヘテロ界面 ,  原子 ,  分解 ,  微細構造 ,  化学反応機構