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J-GLOBAL ID：202002269207781490   整理番号：20A1478980

紫外線照射により生成した活性酸素種により修飾されたポリスチレン表面の深さ方向分析

Depth Direction Analysis of Polystyrene Surface Modified by Active Oxygen Species Generated by Ultraviolet Irradiation

著者 (3件)： Hosoya Kazuki (Research Fellow of Japan Society for the Promotion of Science, Tokai University) ,  Oya Kei (Division of Liberal Arts, Center for Promotion of Higher Education, Kogakuin University) ,  Iwamori Satoru (Graduate School of Engineering, Course of Mechanical Engineering, Tokai University)
資料名： Chemistry Letters (Web)  (Chemistry Letters (Web))
巻： 49  号： 4  ページ： 350-353(J-STAGE)  発行年： 2020年 
JST資料番号： U1704A  ISSN： 1348-0715  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸素プラズマを照射した市販のPSの表面特性と比較して,活性酸素種(AOS)に曝露したポリスチレン(PS)の表面特性を評価した。角度分解X線光電子分光法による非破壊深さ方向分析により,AOSに曝露したPSが,酸素プラズマ照射と比較して,深さ方向により小さな表面極性基密度とより均一な表面特性を有することがわかった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 紫外線照射 ,  *活性酸素 ,  *深さ分析 ,  *ポリスチレン ,  プラズマ ,  表面性状 ,  表面処理 ,  *表面改質 ,  角度分解分光法 ,  X線光電子スペクトル ,  酸素プラズマ

著者キーワード (3件)： 表面改質 ,  活性酸素種 ,  角度保存X線光電子分光法

分類 (4件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  ポリスチレン  (YH07120V)

引用文献 (21件)：

• 1) A. S. Zeiger, B. Hinton, K. J. Van Vliet, Acta Biomater. 2013, 9, 7354.
• 2) O. M. Ba, P. Marmey, K. Anselme, A. C. Duncan, A. Ponche, Colloids Surf., B 2016, 145, 1.
• 3) G. C. C. Mendes, T. R. S. Brandão, C. L. M. Silva, Am. J. Infect. Control 2007, 35, 574.
• 4) N. P. Tipnis, D. J. Burgess, Int. J. Pharm. 2018, 544, 455.
• 5) R. Ono, Y. Nakagawa, Y. Tokumitsu, H. Matsumoto, T. Oda, J. Photochem. Photobiol., A 2014, 274, 13.

タイトルに関連する用語 (6件)： 紫外線照射 ,  活性酸素種 ,  修飾 ,  ポリスチレン ,  深さ方向 ,  分析