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J-GLOBAL ID：202002269676194103   整理番号：20A0411146

CeCoSiの室温高圧下粉末X線回折実験

著者 (6件)： 上田諒大 (室蘭工大) ,  川村幸裕 (室蘭工大) ,  谷田博司 (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN) ,  林純一 (室蘭工大) ,  武田圭生 (室蘭工大) ,  関根ちひろ (室蘭工大)
資料名： KEK Progress Report (Web)  (KEK Progress Report (Web))
号： 2019-7  ページ： ROMBUNNO.213 (WEB ONLY)  発行年： 2019年11月 
JST資料番号： U0583A  ISSN： 1344-6320  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (4件)： 室温 ,  高圧 ,  粉末X線回折 ,  実験