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J-GLOBAL ID：202002269798790345   整理番号：20A2707198

反応性高出力パルスマグネトロンスパッタリングによるα-(Al,Cr)_2O_3薄膜の低温堆積と硬度増強【JST・京大機械翻訳】

Low-temperature deposition and hardness enhancement of α-(Al,Cr)₂O₃ films by reactive high power pulsed magnetron sputtering

著者 (5件)： Cheng Yitian (Institute of Intelligent Manufacturing Technology, Postdoctoral Innovation Practice Base, Shenzhen Polytechnic, Shenzhen, 518055, People’s Republic of China) ,  Cheng Yitian (School of Materials Science and Engineering, Southeast University, Nanjing 210096, People’s Republic of China) ,  Chu Chenglin (School of Materials Science and Engineering, Southeast University, Nanjing 210096, People’s Republic of China) ,  Zhou Peng (Institute of Intelligent Manufacturing Technology, Postdoctoral Innovation Practice Base, Shenzhen Polytechnic, Shenzhen, 518055, People’s Republic of China) ,  Zhou Peng (Department of Materials Science and Engineering, Southern University of Science and Technology, Shenzhen, 518055, People’s Republic of China)
資料名： Materials Research Express  (Materials Research Express)
巻： 7  号： 11  ページ： 116407 (7pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5570A  ISSN： 2053-1591  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HPPMS)システムにおいて,α-(Al,Cr)_2O_3のコランダム構造薄膜を成長させる方法を示した。膜を,すれすれ入射X線回折(GIXRD),走査電子顕微鏡(SEM),透過型電子顕微鏡(TEM)およびナノインデンテーションによって特性評価した。結果は,化学量論的α-(Al,Cr)_2O_3膜が,他の準安定相の形成なしで540°Cで堆積できることを示した。マグネトロンスパッタリングの安定プロセスは,ナノスケール粒子から成る膜の滑らかでコンパクトな表面を確実にする。膜中のCrは固溶体の形成を誘起し,膜の機械的性質を高めることができる。α-(Al,Cr)_2O_3の硬度は約25.6GPaと計算されたが,これはAlターゲットを用いて堆積した膜よりも遥かに高かった。これらの結果は,切削工具として高速度鋼基板上の低コスト堆積α相アルミナ膜に対してプラスの効果を有すると考えられる。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 機械的性質 ,  固溶体 ,  走査電子顕微鏡 ,  *低温 ,  電子顕微鏡観察 ,  *薄膜 ,  切削工具 ,  *アルミニウム ,  *クロム ,  準安定相 ,  コランダム ,  化学量論 ,  α相 ,  *薄膜成長 ,  透過型電子顕微鏡
準シソーラス用語： ナノスケール ,  すれすれ入射X線回折 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (11件)： 反応性 ,  高出力 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  Al ,  Cr ,  薄膜 ,  低温 ,  堆積 ,  硬度 ,  増強