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J-GLOBAL ID：202002273491045681   整理番号：20A1692008

NdFeAs(O,F)薄膜の微細加工と輸送特性の評価【JST・京大機械翻訳】

Microfabrication of NdFeAs(O,F) thin films and evaluation of the transport properties

著者 (7件)： Tsuji Yasunari (Department of Materials Physics, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Hatano Takafumi (Department of Materials Physics, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Kondo Keisuke (Department of Materials Physics, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Iida Kazumasa (Department of Materials Physics, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan) ,  Iida Kazumasa (JST-CREST, Kawaguchi, Saitama 332-0012, Japan) ,  Mawatari Yasunori (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan) ,  Ikuta Hiroshi (Department of Materials Physics, Nagoya University, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8603, Japan)
資料名： Superconductor Science and Technology  (Superconductor Science and Technology)
巻： 33  号： 7  ページ： 074001 (5pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： T0607A  ISSN： 0953-2048  CODEN： SUSTEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： NdFeAs(O,F)のサブミクロンサイズのストリップラインを作製し,輸送特性を研究した。レーザリソグラフィーとドライエッチングを用いて,幅が0.84μmのストリップラインを作製した。超伝導臨界温度は,作製過程によって重大な影響を受けなかったが,臨界電流密度(J_c)の著しい低下が,試料をArプラズマ中でエッチングしたとき,2μmより狭いストリップ線に対して観察された。一方,プラズマフリー法を用いて,J_cの劣化は大きく防止され,5MAcm-2より高いJ_cを持つストリップラインを得る収率はかなり上昇した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： プラズマ ,  *薄膜 ,  アルゴン ,  ストリップ線路 ,  *微細加工 ,  ドライエッチング ,  レーザリソグラフィー ,  臨界電流密度
準シソーラス用語： 輸送特性 ,  超伝導転移温度 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  微細加工 ,  輸送特性 ,  評価