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J-GLOBAL ID:202002275043809059   整理番号:20A0505679

ゾル-ゲル法によるシリカを添加したメチル-フェニルシルセスキオキサン厚膜の作製

著者 (8件):
資料名:
巻: 2019  ページ: ROMBUNNO.1D22  発行年: 2019年03月01日 
JST資料番号: X0505B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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低温で焼成することにより製造できる透明な厚膜は,釉薬の代替材料として必要である...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  非金属材料へのセラミック被覆 
物質索引 (1件):
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