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J-GLOBAL ID：202002275043809059   整理番号：20A0505679

ゾル-ゲル法によるシリカを添加したメチル-フェニルシルセスキオキサン厚膜の作製

著者 (8件)： 井上雄太 (北大) ,  ROSERO-NAVARRO Nataly Carolina (北大) ,  三浦章 (北大) ,  忠永清治 (北大) ,  笠作衛 (関西大) ,  幸塚広光 (関西大) ,  米田裕和 (LIXIL) ,  新開誠司 (LIXIL)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2019  ページ： ROMBUNNO.1D22  発行年： 2019年03月01日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 低温で焼成することにより製造できる透明な厚膜は,釉薬の代替材料として必要である...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： *有機ケイ素化合物 ,  ゾル-ゲル法 ,  二酸化ケイ素 ,  皮膜 ,  焼成 ,  亀裂 ,  ハイブリッド複合材料 ,  *複合材料 ,  膜 ,  セラミック膜 ,  *厚膜 ,  アルキル基 ,  構成 ,  硬度 ,  釉薬 ,  セラミック厚膜 ,  メチル基 ,  鉛筆硬度 ,  低温焼成 ,  透明膜 ,  *有機無機複合材料 ,  薄膜形成
準シソーラス用語： コーティング膜 ,  シリカ ,  ハイブリッド膜 ,  メチル ,  成膜

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K)

物質索引 (1件)： フェニルシルセスキオキサン

タイトルに関連する用語 (5件)： ゾル-ゲル法 ,  シリカ ,  フェニルシルセスキオキサン ,  厚膜 ,  作製