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J-GLOBAL ID：202002277115929022   整理番号：20A1236053

超臨界流体化学蒸着によるNi薄膜合成の動力学

Kinetics of Ni thin film synthesis by supercritical fluid chemical deposition

著者 (2件)： Sudiyarmanto (Integrated Graduate School of Medicine, Engineering, and Agricultural Sciences, University of Yamanashi, Kofu 400-8511, Japan) ,  Kondoh Eiichi (Integrated Graduate School of Medicine, Engineering, and Agricultural Sciences, University of Yamanashi, Kofu 400-8511, Japan)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 59  号： SL  ページ： SLLE02 (7pp)  発行年： 2020年07月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Niを前駆体Ni(hfac)₂・3H₂Oの水素還元により超臨界流体化学蒸着(SFCD)によりTiN薄膜上に蒸着した。この点について,SFCDフロー型反応系を用いて,Ni薄膜の成膜速度と反応機構を調べた。その結果,Niの成長速度は前駆体濃度の上昇とともに増加し,その後飽和することがわかった。アレニウスプロットに基づいて,見掛けの活性化エネルギーはH₂濃度の増加とともに減少し,0.90から0.61eVの範囲の値が得られた。Langmuir-Hinshelwoodモデルを用いた反応速度論と反応スキームでは,表面反応が速度決定ステップとなり,前駆体濃度に対してゼロオーダーの反応が発生した。一方,Ni薄膜の反応スキームにおける前駆体と水素の吸着の平衡定数は,温度の上昇とともに減少することがわかり,これは,反応が発熱性であることを示している。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *超臨界流体 ,  *化学蒸着 ,  *ニッケル ,  *金属薄膜 ,  *動力学 ,  前駆体 ,  脂肪族ケトン ,  還元 ,  成長速度 ,  反応機構 ,  活性化エネルギー ,  Langmuir-Hinshelwood機構 ,  反応速度論 ,  表面反応 ,  吸着 ,  平衡定数 ,  発熱反応 ,  脂肪族フッ素化合物 ,  ジケトン
準シソーラス用語： 水素還元 ,  成膜速度 ,  Arrheniusプロット ,  水素吸着

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

物質索引 (1件)： hfac

タイトルに関連する用語 (5件)： 超臨界流体 ,  化学蒸着 ,  Ni ,  薄膜 ,  動力学