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J-GLOBAL ID:202002279015338063   整理番号:20A2607931

アゾベンゼン系非晶質分子材料の写真製版法の挙動:寒天ゲル表面に作った4-[ビス(9,9-ジメチルフルオレン-2-イル)アミノ]アゾベンゼン類似体の非晶質膜の光誘起構造変化

Photomechanical Behaviors of Azobenzene-based Amorphous Molecular Materials: Photoinduced Structural Changes of Amorphous Films of 4-[Bis(9,9-dimethylfluoren-2-yl)amino]azobenzene Analogues Fabricated on the Surface of Agar Gel
著者 (2件):
資料名:
巻: 33  号:ページ: 63-66(J-STAGE)  発行年: 2020年 
JST資料番号: U2132A  ISSN: 1349-6336  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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寒天ゲルの表面に作った4-[ビス(9,9-ジメチルフルオレン-2-イル)アミノ]-4′-シアノアゾベンゼン(CN-BFIAB)と4-[ビス(9,9-ジメチルフルオレン-2-イル)アミノ-4′-ニトロアゾベンゼン(NO2-BFIAB)膜の写真製版法の挙動を調べた。488nmの直線偏光レーザビームの照射により,ストライプのパターン形成および続く帯状構造形成を含む二段階過程を観察し,親化合物である4-[ビス(9,9-ジメチルフルオレン-2-イル)アミノ]アゾベンゼン(BFIAB)膜に対する結果と同様であった。CN-BFIABに対する同様の構造変化の速度は,BFIAB膜の場合とほぼ同じか,やや遅かった。一方,NO2-BFIABに対する速度はBFIABおよびCN-BFIABに対する速度よりかなり遅かった。結果は,非晶質膜における分子のフォトクロミック反応性が写真製版法の挙動に関与することを示唆した。(翻訳著者抄録)
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