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J-GLOBAL ID:202002282277408005   整理番号:20A1423611

ナノリソグラフィーとその最近の進歩【JST・京大機械翻訳】

Nanolithography and its current advancements
著者 (5件):
資料名:
巻: 26  号: P2  ページ: 2351-2356  発行年: 2020年 
JST資料番号: W3531A  ISSN: 2214-7853  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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現在のレビュー論文は,フィールドにおける最近の発展とともに,リソグラフィーとその技術を扱う。ナノテクノロジーの新しい分岐であるナノリソグラフィーは,今日まで,経路破壊発見と開発を創り出した。ナノリソグラフィーは,基本的に,ナノメートルスケールにおける構造またはパターンの生成または製造である。分野は現在,巨大な需要であり,科学のほとんど全ての研究と進歩に不可欠と考えられている。現在使用されている3つの主なリソグラフィー技術がある。レビューは,ユーザにとって有用な各技術に対する主要および重要なステップをカバーし,また,各技術の長所,短所および応用を含む。光レジスト,基板およびフォトマスクなどを用いた最近の発見および発見についても,各技術について言及した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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