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J-GLOBAL ID:202002282889194749   整理番号:20A1017433

高温での不均一格子変化のためのセラミック薄膜の逆空間マップ測定【JST・京大機械翻訳】

Reciprocal Space Map Measurement of Ceramics Thin Films for Unequal Lattice Change at High Temperature
著者 (3件):
資料名:
巻: 985  ページ: 218-222  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0716B  ISSN: 0255-5476  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
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セリアとジルコニアは,それらの熱的,機械的,化学的安定性にとって非常に重要であり,それらの薄膜は,成長する電気デバイス,熱遮蔽または光学コーティング,耐食性コーティング,酸素センサ,および燃料電池用イオン伝導体などの応用に多くの注目を集めている。薄膜の配向と位相を調べ,制御することは,これらの性能を改善するために重要である。本研究において,CeO_2/YSZ/Si(001)の逆空間マップを,試料ステージに加熱器を加えることによって,高温で得た。CeO_2とYSZ薄膜はエピタキシャル成長試料であった。高温での格子定数を測定することにより,基板表面に平行なCeO_2とYSZ薄膜の軸はバルク参照より小さい熱係数を示し,表面に垂直な軸は下層とSi基板による大きな熱係数を示した。各膜の格子の歪速度は膜堆積温度付近で小さかった。膜厚により膜表面の格子定数を制御できた。したがって,例えば,SrTiO_3がCeO_2層上に蒸着されるとき,温度上昇に伴うCeO_2の格子変化は,上部層を堆積する前のそれと異なる可能性がある。Copyright 2020 Trans Tech Publications Ltd. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
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