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J-GLOBAL ID：202002283145575654   整理番号：20A0489176

原子間力顕微鏡を用いた固体材料のHamaker定数を決定するための改良法に向けて I 任意の表面粗さに対する準静的解析【JST・京大機械翻訳】

Toward an Improved Method for Determining the Hamaker Constant of Solid Materials Using Atomic Force Microscopy. I. Quasi-Static Analysis for Arbitrary Surface Roughness

著者 (3件)： Stevenson Michael C. (Davidson School of Chemical Engineering, Purdue University, Indiana, United States) ,  Beaudoin Stephen P. (Davidson School of Chemical Engineering, Purdue University, Indiana, United States) ,  Corti David S. (Davidson School of Chemical Engineering, Purdue University, Indiana, United States)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 124  号： 5  ページ： 3014-3027  発行年： 2020年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固体材料のHamaker定数(A)を決定するための既存の接触原子間力顕微鏡(AFM)法に対する改良の初期開発と予備的検証を示した。更新した方法は,与えられた基板の表面トポグラフィーを明確に説明し,これによりAの推定値を改善し,この方法を適用できる表面のタイプの範囲を拡張できる。AFMカンチレバーチップ間の一般的van der Waals(vdW)力表現を導出した後,有効球として扱い,任意の粗さを持つ表面,表面と最初の接触でのカンチレバー先端のたわみ,d_cをすべてのチップ位置に対して得た。vdW力は表面に沿って局所的に変化するので,d_c値の分布をAの与えられた値に対して得た。種々のモデル表面に対して,得られたd_c分布に及ぼす表面粗さの影響を検討し,表面粗さが近似的に説明できないことを示した。著者らはまた,最新の方法の予備実験的検証を提示し,それにより,非晶質シリカ表面の単純化バージョンの予測されたd_C分布が,AFM実験から得られたd_C分布と有利に比較されることを見出した。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 表面粗さ ,  推定量 ,  簡素化 ,  *原子間力顕微鏡 ,  近似法 ,  片持梁
準シソーラス用語： 非晶質シリカ ,  予備実験 ,  表面トポグラフィー ,  *静的解析 ,  *Hamaker定数 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  電極過程  (CB07040U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 原子間力顕微鏡 ,  固体材料 ,  Hamaker定数 ,  改良法 ,  表面粗さ ,  静的解析