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J-GLOBAL ID:202002284088283943   整理番号:20A1900399

Si基板上のSiC/Si基板およびInGaNナノ構造上のGaN NWsのMBE合成および特性【JST・京大機械翻訳】

MBE synthesis and properties of GaN NWs on SiC/Si substrate and InGaN nanostructures on Si substrate
著者 (11件):
資料名:
巻: 1537  号:ページ: 012003 (5pp)  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5565A  ISSN: 1742-6588  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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SiC/SiとSi基板上の分岐形態MBE成長のGaN NWsとInGaNナノ構造の可能性を実証した。SiC/Si(111)基板上のGaN NWの光ルミネセンススペクトルの強度は,炭化ケイ素のバッファ層のないGaN NWの最良の構造よりも2倍以上高いことが分かった。形態学的研究の結果は,InGaN合成がいくつかの段階で起こることを示した。InGaNナノ構造は,室温で光学活性であり,広い放射可視域を有することが分かった。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
分類
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発光素子  ,  半導体のルミネセンス 

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