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J-GLOBAL ID：202002284959670241   整理番号：20A1231314

超臨界水中で形成されたNb水素化物における水素深さプロファイル

Hydrogen Depth-profiles in Nb Hydrides Formed in Supercritical Water

著者 (12件)： Soda Kazuo (Department of Quantum Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  Soda Kazuo (Department of Material, Physics and Energy Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  Soda Kazuo (Nagoya Synchrotron Radiation Research Center, Nagoya University) ,  Sugiura Shinya (Department of Material, Physics and Energy Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  Yamaguchi Kanta (Department of Quantum Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  Kato Masahiko (Department of Quantum Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  Kato Masahiko (Department of Material, Physics and Energy Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  Niwa Ken (Department of Crystalline Materials Science, Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  Hasegawa Masashi (Department of Crystalline Materials Science, Graduate School of Engineering, Nagoya University) ,  Suzuki Kohtaku (The Wakasa Wan Energy Research Center) ,  Ishigami Ryoya (The Wakasa Wan Energy Research Center) ,  Ikenaga Eiji (Japan Synchrotron Radiation Research Center)
資料名： e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))
巻： 18  ページ： 152-158(J-STAGE)  発行年： 2020年 
JST資料番号： U0016A  ISSN： 1348-0391  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非常に高い圧力と温度の下で,超臨界水中で形成されたNb水素化物,NbH_xおよび/またはNbD_xの水素含有量xを,水素化物表面からの深さの関数として,イオンビーム分析(弾性反跳検出分析とRutherford後方散乱分光法,ERDA/RBS)によって研究した。水素に富むα′-NbH(x≒0.9)は,4~25nmのNb酸化物被覆層とともに,約200nm厚さの表面層を形成し,X線回折(XRD)分析では見えないかほとんど見えなかったが,水素欠乏α-NbH(x<0.2)はバルク中で1μmの深さに見えた。酸化物被覆層は更なる水素化で厚くなった。D₂Oで形成された水素化物試料の表面領域において,HとDの交換が示唆された。研究した試料の化学状態も角度依存性硬X線光電子分光法,HAXPESにより分析した。Nb水素化物の形成機構を,水素含有量xと化学状態の深さプロフィル,ならびにNb水素化物のXRD結果に基づいて議論した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *水素化物 ,  *ニオブ化合物 ,  *超臨界水 ,  *深さプロフィル ,  重水素化合物 ,  化学組成 ,  核反応分析 ,  放射線吸収・散乱分析 ,  Rutherford散乱分光法 ,  被覆層 ,  酸化ニオブ ,  表層 ,  X線回折 ,  同位体交換 ,  X線光電子分光法 ,  硬X線 ,  角度依存性 ,  深さ分布
準シソーラス用語： HAXPES ,  Rutherford後方散乱分光法 ,  XRD ,  イオンビーム分析 ,  化学状態 ,  重水素化物 ,  *水素化ニオブ ,  弾性反跳検出分析 ,  表面層

著者キーワード (5件)： Nb水素化物 ,  高圧超臨界水 ,  水素含有量 ,  弾性反跳検出解析 ,  深さプロファイル

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

引用文献 (24件)：

• [1] G. Alefeld and J. Völkl (Eds.), Hydrogen in Metals I (Springer, Berlin, Heidelberg, 1978).
• [2] F. A. Lewis and A. Aladjem (Eds.), Hydrogen Metal Systems I/II (Scitec Publications, Switzerland,1996).
• [3] S. A. Steward, Review of Hydrogen Isotope Permeability through Materials (Lawrence Livermore National Lab., California, 1983).
• [4] A. Zerr, G. Miehe, G. Serghiou, M. Schwarz, E. Kroke, R. Riedel, H. Fueß, P. Kroll, and R. Boehler, Nature 400, 340 (1999).
• [5] M. Hasegawa, H. Otsuka, K. Niwa, and T. Yagi, International Conference on High Pressure Science and Technology, Joint AIRAPT-22 & HPCJ-50 (Tokyo, 2009) 27B13.

タイトルに関連する用語 (5件)： 超臨界水 ,  Nb ,  水素化物 ,  水素 ,  深さプロファイル