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J-GLOBAL ID：202002286533468710   整理番号：20A2149648

サブナノメータ表面粗さを有する10ナノメートル深さニオブ酸リチウムナノ構造【JST・京大機械翻訳】

Ten-nanometer-depth lithium niobate nanostructures with sub-nanometer surface roughness

著者 (7件)： Qu Minni (Center for Advanced Electronic Materials and Devices, School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai Jiao Tong University, No. 800, Dongchuan Road, Shanghai 200240, People’s Republic of China) ,  Xu Jian (Center for Advanced Electronic Materials and Devices, School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai Jiao Tong University, No. 800, Dongchuan Road, Shanghai 200240, People’s Republic of China) ,  Tian Miao (Center for Advanced Electronic Materials and Devices, School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai Jiao Tong University, No. 800, Dongchuan Road, Shanghai 200240, People’s Republic of China) ,  Wu Liying (Center for Advanced Electronic Materials and Devices, School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai Jiao Tong University, No. 800, Dongchuan Road, Shanghai 200240, People’s Republic of China) ,  Shen Yunliang (Center for Advanced Electronic Materials and Devices, School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai Jiao Tong University, No. 800, Dongchuan Road, Shanghai 200240, People’s Republic of China) ,  Cheng Xiulan (Center for Advanced Electronic Materials and Devices, School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai Jiao Tong University, No. 800, Dongchuan Road, Shanghai 200240, People’s Republic of China) ,  Wang Ying (Center for Advanced Electronic Materials and Devices, School of Electronic Information and Electrical Engineering, Shanghai Jiao Tong University, No. 800, Dongchuan Road, Shanghai 200240, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 30  号： 10  ページ： 105009 (5pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニオブ酸リチウム(LN)ベースのフォトニック素子の形状サイズの低減は,新しい機能性を有する超コンパクトLNフォトニックシステムの実現に不可欠である。しかし,数十ナノメータとそれ以下のLN構造の精密製作は挑戦的な仕事である。集束イオンビーム(FIB)は,その柔軟性と高分解能のため,超平滑LNナノパターニングに有望である。しかし,電荷蓄積を避けるためにLN表面に被覆した金属膜の不均一エッチングのため,FIBミリング中にLN表面に大きな表面粗さが残った。超平滑パターンを達成するために,金属膜の代替として有機導電性レジストを用いた。結果は,表面粗さが,数百ナノメートルから数ナノメートルまでのエッチング深さで0.6nm未満に保たれたことを示した。超浅いステップを,制御可能な10nmステップ高さを有するLN表面上に作製した。本研究は,LNナノ構造の超平滑および超浅いFIBパターニングへの道を開く。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エッチング ,  帯電 ,  金属薄膜 ,  柔軟性 ,  表面粗さ ,  レジスト ,  *ニオブ酸リチウム ,  高分解能 ,  集束イオンビーム ,  パターン形成 ,  *ナノ構造 ,  導電性
準シソーラス用語： フォトニックデバイス ,  機能性 ,  ナノパターニング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： サブ ,  ナノメータ ,  表面粗さ ,  メートル ,  ニオブ酸リチウム ,  ナノ構造