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J-GLOBAL ID：202002287091499390   整理番号：20A0363869

合成雲母上に成長させた原子的に平坦なパラジウム膜

Atomically flat palladium films grown on synthetic mica

著者 (2件)： TANAKA Hiroyuki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TANIGUCHI Masateru (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 58  号： 12  ページ： 128004.1-128004.3  発行年： 2019年12月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子的に平坦なパラジウム薄膜は,熱的に安定な合成フルオロフロゴライト雲母[KMg₃(AlSi₃O₁₀)F₂]上にヘテロエピタキシャルに形成された。パラジウム膜の堆積は,酸素プラズマなしの自家製パラジウムフィラメントを用いた簡単な堆積法により行った。X線回折と原子間力顕微鏡の組合せにより,熱的に安定な合成フルオロフロゴピウム雲母が800°Cでポストアニーリングを可能にし,原子的に平坦な双晶単結晶エピタキシャルPd(111)膜の形成をもたらすことを明らかにした。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 雲母 ,  *平坦性 ,  *金属薄膜 ,  ヘテロエピタクシー ,  X線回折 ,  原子間力顕微鏡 ,  焼なまし ,  双晶
準シソーラス用語： *原子的に平坦 ,  *パラジウム膜 ,  ポストアニーリング

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 雲母 ,  成長 ,  原子 ,  パラジウム膜