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J-GLOBAL ID：202002287101365450   整理番号：20A1098805

低真空からヘリウム雰囲気までの条件下での先進材料の表面と界面の局所電子構造を調べるための走査軟X線分光顕微鏡の開発【JST・京大機械翻訳】

Development of a scanning soft X-ray spectromicroscope to investigate local electronic structures on surfaces and interfaces of advanced materials under conditions ranging from low vacuum to helium atmosphere

著者 (6件)： Oura Masaki (RIKEN SPring-8 Center, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan) ,  Ishihara Tomoko (RIKEN SPring-8 Center, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan) ,  Osawa Hitoshi (JASRI, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5198, Japan) ,  Yamane Hiroyuki (RIKEN SPring-8 Center, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan) ,  Hatsui Takaki (RIKEN SPring-8 Center, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan) ,  Ishikawa Tetsuya (RIKEN SPring-8 Center, 1-1-1 Kouto, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo679-5148, Japan)
資料名： Journal of Synchrotron Radiation  (Journal of Synchrotron Radiation)
巻： 27  号： 3  ページ： 664-674  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0763A  ISSN： 0909-0495  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 走査軟X線分光顕微鏡を,低真空からヘリウム雰囲気までの範囲の条件下での先進材料の表面と界面上の局所電子構造の研究のための光子/光子アウト測定法に基づいて最近開発した。装置はSPring-8で軟X線ビームライン(BL17SU)に設置した。装置の特徴を詳細に述べた。この分光顕微鏡の実現可能性を軟X線アンジュレータ放射を用いて実証した。ここでは,これらの結果に基づいて,元素特異二次元マッピングとマイクロXAFS(X線吸収微細構造)測定を報告し,シリコン基板上に作製したパーマロイマイクロドットパターンの参照試料を用いて,適度な空間分解能(例えば~500nm)を用いて磁区構造を観察した。次に,近い将来の実験のために,集束X線ビームに対して照射されない材料の典型的な例として,フッ素K端近傍のNafionに対するX線放射線量を検討した。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *界面 ,  光子 ,  集束 ,  *電子構造 ,  *軟X線 ,  フッ素 ,  *ヘリウム ,  放射線量 ,  二次元 ,  パーマロイ ,  ビームライン ,  XAFS ,  シリコンウエハ ,  X線ビーム
準シソーラス用語： Nafion , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 軟X線 ,  走査分光顕微鏡 ,  光子イン/光子アウト ,  低真空 ,  ヘリウム雰囲気

分類 (2件)： X線技術  (BA02060D) ,  線源,照射装置  (MC01020V)

タイトルに関連する用語 (11件)： 真空 ,  ヘリウム ,  雰囲気 ,  先進材料 ,  界面 ,  電子構造 ,  走査 ,  軟X線 ,  分光 ,  顕微鏡 ,  開発