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J-GLOBAL ID：202002288509432748   整理番号：20A0030233

不活性基板上の合金薄膜における表面及び界面偏析に及ぼす応力の影響【JST・京大機械翻訳】

The effect of stress on surface and interface segregation in thin alloy films on inert substrates

著者 (3件)： Klinger Leonid (Department of Materials Science and Engineering, Technion - Israel Institute of Technology, Haifa, Israel) ,  Wang Jiangyong (Department of Physics, Shantou University, Shantou, Guangdong, China) ,  Rabkin Eugen (Department of Materials Science and Engineering, Technion - Israel Institute of Technology, Haifa, Israel)
資料名： Journal of Materials Science  (Journal of Materials Science)
巻： 55  号： 8  ページ： 3629-3635  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0722A  ISSN： 0022-2461  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 不活性基板に付着した二元金属合金の極薄単結晶膜における外部表面及び膜-基板界面における溶質原子の平衡偏析を記述するために正則溶液型モデルを用いた。系の有限サイズ,膜中の層間相互作用及び膜中のヘテロエピタキシャル歪を考慮した。表面及び界面層におけるコヒーレント歪パラメータ(溶質の添加による合金格子定数の相対変化を記述する)の値が膜の残りの値と異なる場合にのみ,膜中の均一なヘテロペプチド軸歪が溶質原子の表面及び界面偏析に影響を及ぼすことを実証した。開発したモデルをサファイア基板上に堆積したNi(Au)薄膜に適用した。Auの界面偏析に関するモデル予測と最近の実験データ間の定量的一致は,膜がヘテロエピタキシャルに圧縮されると仮定することにより達成できた。Copyright 2019 Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エピタクシー ,  格子定数 ,  *合金 ,  *薄膜 ,  コヒーレンス ,  正則溶液 ,  *偏析 ,  *金 ,  溶質 ,  *界面
準シソーラス用語： サファイア基板 ,  界面層 ,  溶質原子 ,  *合金薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の金属組織学  (WB01040Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： 不活性 ,  合金薄膜 ,  界面 ,  偏析 ,  応力