特許
J-GLOBAL ID:202003001081359270
ブロックコポリマーのアニール方法およびブロックコポリマーから製造する物品
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-191964
公開番号(公開出願番号):特開2020-023712
出願日: 2019年10月21日
公開日(公表日): 2020年02月13日
要約:
【課題】改良されたナノリソグラフィのパターニングに使用される、ポリアルキルスチレン-ポリシロキサンブロック共重合体を提供する。【解決手段】芳香環に少なくとも1つのアルキル置換基を有するビニル芳香族モノマーから誘導された第一のブロックと、シロキサンモノマーから誘導された第二のブロックと、を含むブロック共重合体。第一のブロックと第二のブロックとの相互作用を決定するχパラメータは、温度200°Cで0.03〜0.18である、ブロック共重合体。第一のブロックを形成し、更に、第一のブロックに第二のブロックを重合して、ブロック共重合体を形成する方法であって、第二のブロックは、シロキサンモノマーの重合によって誘導される、ブロック共重合体の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
芳香環に少なくとも1つのアルキル置換基を有するビニル芳香族モノマーから誘導された第一のブロックであって、共重合体の総体積の40〜60体積%の量で存在するか、または共重合体の総体積の65〜85体積%の量で存在する第一のブロックと、
シロキサンモノマーから誘導された第二のブロックであって、共重合体の総体積の15〜35体積%の量で存在するか、または前記第二のブロックは、共重合体の総体積の40〜60体積%の量で存在する第二のブロックと、
を含み、
前記第一のブロックと前記第二のブロックとの間の相互作用を決定するχパラメータは、温度200°Cで0.03〜0.18である、
ブロック共重合体。
IPC (2件):
FI (3件):
C08G77/442
, C08J7/04 A
, C08J7/04
Fターム (30件):
4F006AA15
, 4F006AA42
, 4F006AB05
, 4F006AB16
, 4F006AB52
, 4F006CA08
, 4F006EA05
, 4J246AA03
, 4J246AB02
, 4J246BA020
, 4J246BA02X
, 4J246BB02
, 4J246BB021
, 4J246BB022
, 4J246BB02X
, 4J246BB110
, 4J246BB112
, 4J246BB11X
, 4J246CA240
, 4J246CA24X
, 4J246EA03
, 4J246FA291
, 4J246FA431
, 4J246FA551
, 4J246FC121
, 4J246FE13
, 4J246GA01
, 4J246GA02
, 4J246GD08
, 4J246HA66
引用特許:
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