特許
J-GLOBAL ID:201503001307600382
ブロックコポリマーのアニール方法およびブロックコポリマーから製造する物品
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-237198
公開番号(公開出願番号):特開2015-129261
出願日: 2014年11月21日
公開日(公表日): 2015年07月16日
要約:
【課題】改良されたナノリソグラフィのパターニングに使用される、ポリアルキルスチレン-ポリシロキサンブロック共重合体を提供する。【解決手段】芳香環に少なくとも1つのアルキル置換基を有するビニル芳香族モノマーから誘導された第一のブロックと、シロキサンモノマーから誘導された第二のブロックと、を含むブロック共重合体。第一のブロックと第二のブロックとの相互作用を決定するχパラメータは、温度200°Cで0.03〜0.18である、ブロック共重合体。第一のブロックを形成し、更に、第一のブロックに第二のブロックを重合して、ブロック共重合体を形成する方法であって、第二のブロックは、シロキサンモノマーの重合によって誘導される、ブロック共重合体の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ビニル芳香族モノマーが、芳香環に少なくとも1つのアルキル置換基を有するビニル芳香族モノマーから誘導された第一のブロックと、
シロキサンモノマーから誘導された第二のブロックと、
を含み、前記第一のブロックと前記第二のブロックとの相互作用を決定するχパラメータは、温度200°Cで0.03〜0.18であるブロック共重合体。
IPC (3件):
C08G 77/442
, C08J 7/00
, C08G 81/02
FI (4件):
C08G77/442
, C08J7/00 301
, C08J7/00
, C08G81/02
Fターム (32件):
4F073AA29
, 4F073BA19
, 4F073BA33
, 4F073BB01
, 4F073GA01
, 4J031AA13
, 4J031AA59
, 4J031AB01
, 4J031AC01
, 4J031AC13
, 4J031AD01
, 4J031AE15
, 4J031AF26
, 4J246AA03
, 4J246AB02
, 4J246BA020
, 4J246BA02X
, 4J246BB020
, 4J246BB022
, 4J246BB02X
, 4J246CA240
, 4J246CA24E
, 4J246CA24X
, 4J246EA03
, 4J246FA291
, 4J246FA431
, 4J246FA551
, 4J246FA792
, 4J246GA01
, 4J246GD08
, 4J246HA61
, 4J246HA69
引用特許:
引用文献:
前のページに戻る