特許
J-GLOBAL ID：202003002334286483
蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
特許業務法人 インテクト国際特許事務所
, 石橋 良規
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-165055
公開番号（公開出願番号）：特開2017-002408
特許番号：特許第6756191号
出願日： 2016年08月25日
公開日（公表日）： 2017年01月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 金属層が積層され、かつ蒸着作製するパターンに対応した開口部が設けられた樹脂マスクを含む蒸着マスクを製造するにあたり、蒸着作製するパターンに対応した前記樹脂マスクの開口部をレーザーによって形成する際に用いられるレーザー用マスクであって、
当該レーザー用マスクは、
前記開口部に対応する開口領域と、
当該開口領域の周囲に位置し、照射されるレーザーのエネルギーを減衰させる減衰領域と、
を含み、
前記減衰領域に、レーザーのエネルギーを減衰する塗料が塗布されていることを特徴とするレーザー用マスク。
IPC (4件)：
C23C 14/04 ( 200 6.01)
, C23C 14/24 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/10 ( 200 6.01)
C23C 14/04 A
, C23C 14/24 G
, H05B 33/14 A
, H05B 33/10
