特許
J-GLOBAL ID：202003002494186990

インプリントモールドの製造方法

発明者：
栗原 正彰

栗原 正彰 について

, 
市村 公二

市村 公二 について

, 
吉田 幸司

吉田 幸司 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 太田 昌孝 ,  米田 潤三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-136215
公開番号（公開出願番号）：特開2018-006707
特許番号：特許第6729102号
出願日： 2016年07月08日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基部と該基部の一の面から突出する凸構造部とを一体的に有する基体と、該凸構造部の上平面に位置する凹凸構造パターンと、を備えるインプリント用モールドの製造方法において、 基部と該基部の一の面から突出する凸構造部とを一体的に有する基体の該凸構造部の上平面に硬化性のレジストの液滴を供給する液滴供給工程と、 所定の平坦面を備える加工基板の該平坦面を前記凸構造部の上平面に近接させて、前記凸構造部の上平面と前記加工基板の平坦面との間に前記レジストを展開してレジスト層を形成する接触工程と、 前記レジスト層を硬化させる硬化工程と、 硬化させた前記レジスト層と前記加工基板を引き離す離型工程と、 前記レジスト層を被覆するように、前記基体の前記基部および前記凸構造部に機能性膜を形成する成膜工程と、 前記レジスト層を除去し、同時に、前記レジスト層を被覆している前記機能性膜を除去する除去工程と、を有し、 前記接触工程では、前記凸構造部の上平面と前記加工基板の平坦面との間に展開する前記レジストを、前記凸構造部の上平面の周縁、あるいは、周縁近傍まで到達させ、かつ、前記凸構造部の上平面と前記加工基板の平坦面との間からはみ出したレジストを、前記加工基板の平坦面の周縁に位置する側壁面に迫り上がらせることを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  B29C 59/02 ( 200 6.01) ,  B29C 33/38 ( 200 6.01)
FI (3件)：
H01L 21/30 502 D ,  B29C 59/02 Z ,  B29C 33/38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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