特許
J-GLOBAL ID:202003002706211078
抗菌性層状ケイ酸塩
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-152349
公開番号(公開出願番号):特開2020-026375
出願日: 2018年08月13日
公開日(公表日): 2020年02月20日
要約:
【課題】抗菌効果と脱灰防止効果を有する抗菌性層状ケイ酸塩、並びに当該抗菌性層状ケイ酸塩を含む抗菌剤及び歯科用組成物を提供する。【解決手段】層状ケイ酸塩に第4級アンモニウムイオンフッ化物を担持した抗菌性層状ケイ酸塩であり、前記第4級アンモニウムイオンフッ化物が、フッ化セチルピリジニウム、フッ化ベンザルコニウム、及びフッ化ベンゼトニウムからなる群より選択される1種以上のフッ化物である。【効果】フッ化セチルピリジニウム等を層間に保有するため、殺菌効果のみならず、フッ素イオンによる脱灰防止効果が期待される。歯質への接着性は良好であり、歯質接着面の剥離時に層状ケイ酸塩が露出するように設計することにより、歯の脱灰抑制および菌の増殖抑制効果を発揮する歯科用組成物となりうる。【選択図】図5
請求項(抜粋):
層状ケイ酸塩が第4級アンモニウムイオンフッ化物を担持した、抗菌性層状ケイ酸塩。
IPC (3件):
C01B 33/44
, A61P 1/02
, A61K 6/882
FI (3件):
C01B33/44
, A61P1/02
, A61K6/06 A
Fターム (64件):
4C076BB22
, 4C076CC32
, 4C076DD27
, 4C076FF31
, 4C076FF63
, 4C086AA01
, 4C086AA02
, 4C086AA03
, 4C086BC17
, 4C086MA02
, 4C086MA05
, 4C086MA57
, 4C086NA03
, 4C086NA10
, 4C086NA12
, 4C086ZA67
, 4C086ZA96
, 4C086ZB35
, 4C089AA02
, 4C089AA06
, 4C089AA13
, 4C089BA01
, 4C089BA02
, 4C089BA03
, 4C089BA04
, 4C089BA06
, 4C089BA11
, 4C089BA14
, 4C089BB02
, 4C089BC07
, 4C206AA01
, 4C206AA02
, 4C206AA03
, 4C206FA41
, 4C206MA02
, 4C206MA05
, 4C206MA77
, 4C206NA03
, 4C206NA10
, 4C206NA12
, 4C206ZA67
, 4C206ZA96
, 4C206ZB35
, 4G073BA80
, 4G073BB03
, 4G073BB07
, 4G073BB13
, 4G073BB44
, 4G073BB48
, 4G073BD16
, 4G073BD21
, 4G073CM15
, 4G073CN04
, 4G073FA02
, 4G073FC19
, 4G073FF06
, 4G073GA03
, 4G073GA31
, 4G073GA40
, 4G073GB08
, 4G073GB09
, 4G073UA20
, 4G073UB32
, 4G073UB33
引用特許:
審査官引用 (3件)
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歯科用組成物の抗菌活性回復方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2015-038324
出願人:国立大学法人北海道大学, 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 国立大学法人岡山大学, 国立大学法人広島大学, ダイヤ工業株式会社
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歯磨剤用の改良された清掃研磨剤の製造法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2007-548295
出願人:ジェイ・エム・ヒューバー・コーポレーション
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特表平5-505396
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