歯磨剤用の改良された清掃研磨剤の製造法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：社本一夫 , 小野新次郎 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 野矢宏彰
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-548295
公開番号（公開出願番号）：特表2008-525451
出願日： 2005年12月12日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：

研磨粒子の反応器後の分粒を空気分級技術によって施した、優れた清掃性能と低研磨性を有する沈降シリカ研磨剤組成物の製造法を提供する。特定の粒径範囲を標的にすることによって、より高い被膜(ペリクル)清掃レベルがシリカ生成物自身の象牙質研磨性まで増大することなく達成できることが解明された。その結果、そのような分級研磨シリカ生成物を含み、特に望ましい清掃利益を示す歯磨剤が、改良された歯研磨、ホワイトニングなどのために、歯の硬質表面に有害な影響を与えることなく提供できる。本発明には、この選択的プロセススキームの生成物及びそのような分級シリカ生成物を含有する歯磨剤も含まれる。

請求項（抜粋）：

沈降シリカ研磨剤組成物の製造法であって、 a)複数の乾燥シリカ粒子を準備する工程; b)前記乾燥シリカ粒子を空気分級によって分粒及び分級する工程;及び c)前記分粒及び分級された乾燥シリカ粒子を、得られた粒子の少なくとも一群が、約5〜約15ミクロンのメジアン粒径、2未満の粒径スパン、及び0.3を超える粒径ベータ値を示すように分離する工程を含む方法。

IPC (3件)：

A61K 8/25 , A61Q 11/00 , C09K 3/14

FI (3件)：

A61K8/25 , A61Q11/00 , C09K3/14 550D

Fターム (22件)：

4C083AB171 , 4C083AB172 , 4C083AB242 , 4C083AB282 , 4C083AB442 , 4C083AB472 , 4C083AC012 , 4C083AC122 , 4C083AC132 , 4C083AC782 , 4C083AC862 , 4C083AD272 , 4C083BB23 , 4C083BB25 , 4C083CC41 , 4C083DD22 , 4C083DD27 , 4C083EE07 , 4C083EE35 , 4C083EE36 , 4C083FF01 , 4C083FF05

引用特許：

審査官引用 (5件)

狭い粒径分布を有するシリカ、その製造方法、その使用および該シリカを含有するエラストマー混合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-033013 出願人：デグサアクチエンゲゼルシャフト
シリカ
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-289432 出願人：ジョセフ・クロスフィールド・アンド・サンズ・リミテッド
粒状非晶質シリカの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-247326 出願人：水澤化学工業株式会社

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引用文献：

審査官引用 (1件)

CARPLEX SHIONOGI, 199804, 表紙、第1頁〜第17頁、奥付

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