特許

J-GLOBAL ID：202003002958088813

膜組み込みマイクロ流体デバイスの製造方法

発明者： 佐々木 直樹
出願人/特許権者： 学校法人 東洋大学
代理人 (2件)： 三好 秀和 ,  高橋 俊一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-157270
公開番号（公開出願番号）：特開2020-028962
出願日： 2018年08月24日
公開日（公表日）： 2020年02月27日
要約：

【課題】液漏れを起こすデバイス個体が減少し、歩留まりが上昇する膜組み込み型マイクロ流体デバイスの新規製造方法を提供する。【解決手段】マイクロ流路パターンを有するシリコーンゴムの基板に、切込みを入れる工程と、切込みの切込み口が開かれるように基板を曲げた状態に保持しながら、基板にプラズマ処理またはコロナ放電処理を施す工程と、切込みに多孔膜を挟み込んで切込み面を圧着させる工程とを含む、膜組み込みマイクロ流体デバイスの製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マイクロ流路パターンを有するシリコーンゴムの基板に、切込みを入れる工程と、 前記切込みの切込み口が開かれるように前記基板を曲げた状態に保持しながら、前記基板にプラズマ処理またはコロナ放電処理を施す工程と、 前記切込みに多孔膜を挟み込んで切込み面を圧着させる工程と を含む、膜組み込みマイクロ流体デバイスの製造方法。

IPC (2件)：

B81C 3/00 ,  G01N 37/00

FI (2件)：

B81C3/00 ,  G01N37/00 101

Fターム (23件)：

3C081AA17 ,  3C081BA21 ,  3C081BA23 ,  3C081CA05 ,  3C081CA13 ,  3C081CA17 ,  3C081CA19 ,  3C081CA32 ,  3C081CA35 ,  3C081CA40 ,  3C081DA10 ,  3C081EA28 ,  3C081EA39 ,  4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC10 ,  4B029CC11 ,  4B029FA15 ,  4B029GA08 ,  4B029GB01 ,  4B029GB09