特許
J-GLOBAL ID：202003003244003390
パターン検査装置及びパターン検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 高下 雅弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-115597
公開番号（公開出願番号）：特開2019-219227
出願日： 2018年06月18日
公開日（公表日）： 2019年12月26日
要約：
【目的】非解像パターンが形成された領域を検査領域内にもつ試料に対して、設計情報と比較しない検査を行う場合に、疑似欠陥を低減可能な装置を提供する。【構成】本発明の一態様の検査装置100は、非解像パターンが形成された領域を含む複数の特定領域を検査領域とした試料から光学画像を取得する光学画像取得機構150と、検査領域を複数の処理領域に分割して、処理領域毎に、当該処理領域内で取得された光学画像の階調値に基づいて当該処理領域が複数の特定領域のうちどの特定領域に相当するのかを判定する特定領域判定回路132と、複数の特定領域の特定領域毎に判定閾値を変えながら、被検査画像となる光学画像が取得された処理領域に相当する特定領域の判定閾値を用いて、当該被検査画像と、当該被検査画像と同一パターンが形成される光学画像とを比較する比較処理部79と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
非解像パターンが形成された領域を含む複数の特定領域を検査領域とした試料から光学画像を取得する光学画像取得機構と、
前記検査領域を複数の処理領域に分割して、処理領域毎に、当該処理領域内で取得された前記光学画像の階調値に基づいて当該処理領域が前記複数の特定領域のうちどの特定領域に相当するのかを判定する特定領域判定部と、
前記複数の特定領域の特定領域毎に判定閾値を変えながら、被検査画像となる光学画像が取得された処理領域に相当する特定領域の判定閾値を用いて、当該被検査画像と、当該被検査画像と同一パターンが形成される光学画像とを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (11件)：
2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051BA05
, 2G051BA10
, 2G051CA03
, 2G051CB01
, 2G051DA07
, 2G051EA12
, 2G051EB01
, 2G051ED04
, 2G051ED11
