特許
J-GLOBAL ID：202003003304927090

シリコーン材料、硬化性シリコーン組成物、および光デバイス

発明者：
吉田 伸

吉田 伸 について

, 
飯村 智浩

飯村 智浩 について


出願人/特許権者：
ダウ・東レ株式会社

ダウ・東レ株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-040279
公開番号（公開出願番号）：特開2016-191038
特許番号：特許第6707369号
出願日： 2016年03月02日
公開日（公表日）： 2016年11月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 X線光電子分光法(ESCA)によるシリコーン材料表面の元素組成百分率において、(i)炭素原子の元素組成百分率が61.5〜66.7atom%であるか、(ii)炭素原子の元素組成百分率とケイ素原子の元素組成百分率の比(C/Si)が3.4〜4.2であるか、または(iii)前記(i)および(ii)のいずれも満たし、前記シリコーン材料が、 (A)平均組成式: R2aSiO[(4-a)/2] (式中、R2は独立に、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基、但し、アルケニル基は全R2の1〜20モル%であり、アリール基は全R2の多くとも40モル%であり、aは1≦a<2を満たす数である。) で表されるオルガノポリシロキサン、 (B)一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサン{(A)成分中のアルケニル基の合計1モルに対して、本成分中のケイ素原子結合水素原子が0.1〜5モルとなる量}、および (C)ヒドロシリル化反応用触媒(本組成物の硬化を促進する量) から少なくともなる硬化性シリコーン組成物の硬化により形成されていることを特徴とするシリコーン材料。
IPC (4件)：
C08L 83/07 ( 200 6.01) ,  C08L 83/05 ( 200 6.01) ,  H01L 23/29 ( 200 6.01) ,  H01L 23/31 ( 200 6.01)
FI (3件)：
C08L 83/07 ,  C08L 83/05 ,  H01L 23/30
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM