特許
J-GLOBAL ID:202003003456691741

サイクロトロンおよびその制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 小島 猛 ,  澤木 亮一 ,  小倉 博 ,  田中 拓人
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-105746
公開番号(公開出願番号):特開2019-023994
特許番号:特許第6697509号
出願日: 2018年06月01日
公開日(公表日): 2019年02月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 加速チャンバ(120)と、 前記加速チャンバ(120)と流れ連通し、前記加速チャンバ(120)を排気するように構成された真空システム(160)と、 荷電粒子を前記加速チャンバ(120)に供給するように構成されたイオン源システム(106)と、 前記荷電粒子から形成された粒子ビーム(215)を誘導するように構成され、前記粒子ビーム(215)は、前記加速チャンバ(120)内のビーム経路に沿って誘導される電場システム(104)および磁場システム(102)と、 前記粒子ビーム(215)が前記ビーム経路に沿って誘導されるときに少なくとも1つの動作パラメータを決定するように構成され、前記少なくとも1つの動作パラメータは、前記加速チャンバ(120)内のガス分子の量に関連する制御システム(112)とを備え、 前記制御システム(112)は、 前記少なくとも1つの動作パラメータに基づいて前記粒子ビーム(215)の前記荷電粒子の供給を減少させ、前記粒子ビーム(215)は、前記荷電粒子の前記供給を減少させた後に前記ビーム経路に沿って引き続き誘導され、 所定の時間後に、および/または前記少なくとも1つの動作パラメータに基づいて前記ガス分子の量が低減したと決定したことに応答して前記粒子ビーム(215)の前記荷電粒子の前記供給を増加させるように構成される、サイクロトロン(101)。
IPC (2件):
H05H 13/00 ( 200 6.01) ,  H05H 7/08 ( 200 6.01)
FI (2件):
H05H 13/00 ,  H05H 7/08
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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