特許
J-GLOBAL ID：202003003525694065

適応型-モジュール型光学センサに基づくプロセス制御システム及びその動作の方法

発明者：
ショーン ラインス

ショーン ラインス について

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リチャード ジェイ.デイグノールト、ジュニア

リチャード ジェイ.デイグノールト、ジュニア について

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ジーヨン グー

ジーヨン グー について

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ホン チェン

ホン チェン について


出願人/特許権者：
ヴェリティー インストルメンツ,インコーポレイテッド

ヴェリティー インストルメンツ,インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 特許業務法人浅村特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-143665
公開番号（公開出願番号）：特開2019-153768
特許番号：特許第6677768号
出願日： 2018年07月31日
公開日（公表日）： 2019年09月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理チャンバ内の生産プロセスをモニタし、且つ光学データ発生させるように構成された光学センサと、 前記光学データから前記生産プロセスの処理条件を決定するためにクリティカル機能を実行するように構成されたオペレーショナル・コントローラであって、前記クリティカル機能がクリティカル機能制御により監督される、オペレーショナル・コントローラと、 前記オペレーショナル・コントローラに前記クリティカル機能制御を提供するように構成された適応型管理コントローラであって、前記適応型管理コントローラが前記クリティカル機能中には前記オペレーショナル・コントローラとは階層的にアイソレートされる、適応型管理コントローラと を備え、 前記クリティカル機能制御が、変数、数式、及びスクリプトを有する構成ファイルを含む、プロセス制御システム。
IPC (1件)：
H01L 21/02 ( 200 6.01)
FI (1件)：
H01L 21/02 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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