特許
J-GLOBAL ID：202003003810527580
異常検出方法及び三次元測定機
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-171852
公開番号（公開出願番号）：特開2020-041988
出願日： 2018年09月13日
公開日（公表日）： 2020年03月19日
要約：
【課題】校正履歴からスタイラスの異常を検出する異常検出方法及び三次元測定機を提供する【解決手段】スタイラスの(N+1)回目の校正データと過去の校正データを取得し、(N+1)回目の校正データとN回目の校正データとの第1差分が第1閾値を超えている第1条件を満たすか否かを判定し、(N+1)回目の校正データと1回目の校正データとの第2差分が第2閾値を超えている第2条件を満たすか否かを判定し、第1条件及び第2条件の少なくとも一方を満たす場合にスタイラスの異常と判定する異常検出方法によって上記課題を解決する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
スタイラスの校正履歴を用いて前記スタイラスの異常を検出する異常検出方法であって、
前記スタイラスを用いて校正用の測定対象物を測定し、Nを整数とすると(N+1)回目の校正データを取得する校正工程と、
前記スタイラスの過去の校正データを取得する校正履歴取得工程と、
前記(N+1)回目の校正データと前記(N+1)回目の1回前の校正データであるN回目の校正データとの第1差分を算出する第1算出工程と、
前記第1差分が第1閾値を超えている第1条件を満たすか否かを判定する第1比較工程と、
前記(N+1)回目の校正データと最初の校正データである1回目の校正データとの第2差分を算出する第2算出工程と、
前記第2差分が第2閾値を超えている第2条件を満たすか否かを判定する第2比較工程と、
前記第1条件及び前記第2条件の少なくとも一方を満たす場合に前記スタイラスの異常と判定する判定工程と、
を備える異常検出方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
2F062AA04
, 2F062AA21
, 2F062AA51
, 2F062CC30
, 2F062DD21
, 2F062EE01
, 2F062EE62
, 2F062FF02
, 2F062GG17
, 2F062HH04
, 2F062HH10
, 2F062LL07
