特許
J-GLOBAL ID：202003003850351182

研磨液組成物の製造方法

発明者：
佐藤 寛司

佐藤 寛司 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内アンドパートナーズ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-256117
公開番号（公開出願番号）：特開2018-109074
特許番号：特許第6730921号
出願日： 2016年12月28日
公開日（公表日）： 2018年07月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 シリカ粒子及び水を含む研磨液組成物の製造方法であって、 pH10.1以上10.9以下に調整されて48時間以上経過した後のシリカ分散液を用いてpH1以上3以下の研磨液組成物を調製する工程を含み、 前記シリカ分散液は、シリカ粒子及び水を含有する、研磨液組成物の製造方法。
IPC (4件)：
C09K 3/14 ( 200 6.01) ,  C01B 33/141 ( 200 6.01) ,  B24B 37/00 ( 201 2.01) ,  G11B 5/84 ( 200 6.01)
FI (4件)：
C09K 3/14 550 D ,  C01B 33/141 ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/84 A
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM