レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 松本将尚 , 宮本龍 , 飯田雅人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-214307
公開番号（公開出願番号）：特開2020-085917
出願日： 2018年11月15日
公開日（公表日）： 2020年06月04日
要約：

【課題】酸の拡散を良好に制御し、かつ、現像液に対する親和性を向上させることにより、感度、ラフネスの低減性、及び解像性のいずれにも優れるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】一般式(a0-1)で表される構成単位と、一般式(a0-2)で表される構成単位と、一般式(a0-3)で表される構成単位と、を有する、レジスト組成物。式(a0-1)中、Rx01は、一般式(a01-r-1)又は一般式(a01-r-2)で表される酸解離性基である。XaとYa、及び、XaaとYaaは、それぞれともに炭素数3〜5の脂肪族単環式基を形成する基である。式(a0-2)中、R1はフッ素化アルキル基である。式(a0-3)中、Wax3は、芳香族炭化水素基である。[化1]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分(A1)を含有し、前記樹脂成分(A1)が、下記一般式(a0-1)で表される化合物における、W1部位の重合性基が主鎖に変換された構成単位(a01)と、下記一般式(a0-2)で表される化合物における、W2部位の重合性基が主鎖に変換された構成単位(a02)と、下記一般式(a0-3)で表される化合物における、W3部位の重合性基が主鎖に変換された構成単位(a03)と、を有する、レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 , C08F 220/10 , G03F 7/20

FI (3件)：

G03F7/039 601 , C08F220/10 , G03F7/20 501

Fターム (54件)：

2H197AA12 , 2H197CA01 , 2H197CA06 , 2H197CA08 , 2H197CA09 , 2H197CA10 , 2H197CE01 , 2H197CE10 , 2H197GA01 , 2H197JA22 , 2H225AF24P , 2H225AF25P , 2H225AF53P , 2H225AF68P , 2H225AF71P , 2H225AF99P , 2H225AH16 , 2H225AH17 , 2H225AH19 , 2H225AH39 , 2H225AJ12 , 2H225AJ13 , 2H225AJ42 , 2H225AJ43 , 2H225AJ48 , 2H225AJ53 , 2H225AJ54 , 2H225AJ58 , 2H225AJ59 , 2H225AN38P , 2H225AN39P , 2H225BA01P , 2H225BA26P , 2H225CA12 , 2H225CB18 , 2H225CC03 , 2H225CC15 , 4J100AA20R , 4J100AB07Q , 4J100AB07R , 4J100AL08P , 4J100AL08R , 4J100AL74P , 4J100AQ01R , 4J100AR21R , 4J100BA02Q , 4J100BA03H , 4J100BA03R , 4J100BB18R , 4J100BC04P , 4J100BC04R , 4J100CA31 , 4J100FA19 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (1件)

レジストパターン形成方法及び感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2014-218772 出願人：JSR株式会社

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