特許
J-GLOBAL ID:202003004500444079
積層体、積層体の製造方法および形状制御デバイス
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人 志賀国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-196996
公開番号(公開出願番号):特開2020-062843
出願日: 2018年10月18日
公開日(公表日): 2020年04月23日
要約:
【課題】形状の制御が容易となる新規な構造体を提供する。また、このような構造体を容易に製造する製造方法を提供する。また、このような構造体を含み、形状を容易に制御可能な形状制御デバイスを提供する。【解決手段】基材10と、ハイドロゲルを形成材料とし基材10の一面に設けられたハイドロゲル層20と、を有し、基材10とハイドロゲル層20との界面には、基材10とハイドロゲル層20とが接着する接着領域1aと、基材10とハイドロゲル層20とが接着しない非接着領域1bと、が形成されている積層体1A。【選択図】図2
請求項(抜粋):
基材と、
ハイドロゲルを形成材料とし前記基材の一面に設けられたハイドロゲル層と、を有し、
前記基材と前記ハイドロゲル層との界面には、前記基材と前記ハイドロゲル層とが接着する接着領域と、前記基材と前記ハイドロゲル層とが接着しない非接着領域と、が形成されている積層体。
IPC (3件):
B32B 7/04
, B05D 7/24
, B05D 1/36
FI (4件):
B32B7/04
, B05D7/24 301Z
, B05D7/24 301P
, B05D1/36 Z
Fターム (34件):
4D075AE06
, 4D075BB64Z
, 4D075CB21
, 4D075CB38
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB31
, 4D075DB35
, 4D075DB37
, 4D075DB38
, 4D075DB42
, 4D075DB54
, 4D075DC16
, 4D075EA05
, 4D075EA35
, 4D075EB07
, 4D075EB19
, 4D075EB22
, 4D075EB24
, 4D075EC37
, 4D075EC45
, 4F100AG00
, 4F100AH06
, 4F100AK25
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA31
, 4F100CA02
, 4F100EH462
, 4F100EH46B
, 4F100EJ54
, 4F100GB66
, 4F100JL11A
, 4F100JM10B
引用特許:
引用文献:
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