特許
J-GLOBAL ID:202003004515206484
重合体及びポジ型レジスト組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
杉村 憲司
, 杉村 光嗣
, 寺嶋 勇太
, 結城 仁美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-219461
公開番号(公開出願番号):特開2020-084007
出願日: 2018年11月22日
公開日(公表日): 2020年06月04日
要約:
【課題】主鎖切断型のポジ型レジストとして使用した際に、解像度及び明瞭性の充分に高いレジストパターンを形成することができる、重合体の提供。【解決手段】一般式(I)で表される単量体単位(A)と、一般式(II)で表される単量体単位(B)と、を有する、重合体。〔式(I)中、R1は、フッ素原子の数が4の有機基である。〕【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(I):
IPC (3件):
C08F 220/22
, C08F 212/04
, G03F 7/039
FI (3件):
C08F220/22
, C08F212/04
, G03F7/039 501
Fターム (24件):
2H225AM14P
, 2H225AM30P
, 2H225AM99P
, 2H225AN59P
, 2H225CA12
, 2H225CB18
, 2H225CC03
, 2H225CC20
, 2H225CD05
, 2H225EA01P
, 4J100AB03Q
, 4J100AB07Q
, 4J100AB10Q
, 4J100AL26P
, 4J100AL75P
, 4J100BA02P
, 4J100BA02Q
, 4J100BB07Q
, 4J100BB17P
, 4J100BB18Q
, 4J100CA04
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (4件)
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レジストパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2016-254061
出願人:日本ゼオン株式会社
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レジストパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2016-254051
出願人:日本ゼオン株式会社
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ポジ型感放射線性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-106856
出願人:東レ株式会社
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特開昭62-223750
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審査官引用 (4件)