特許
J-GLOBAL ID:200903067590784608
ポジ型感放射線性組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-106856
公開番号(公開出願番号):特開2000-298345
出願日: 1999年04月14日
公開日(公表日): 2000年10月24日
要約:
【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】酸の作用によって分解し、アルカリ可溶性となる基を有する構造単位、および下記一般式(1)で示される構造単位を含む重合体、および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(ここでXはハロゲン元素またはシアノ基、Rfはフッ素を含有する炭素数1から20の有機基を表す。)
請求項(抜粋):
酸の作用によって分解し、アルカリ可溶性となる基を有する構造単位、および下記一般式(1)で示される構造単位を含む重合体、および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(ここでXはハロゲン元素またはシアノ基、Rfはフッ素を含有する炭素数1から20の有機基を表す。)
IPC (9件):
G03F 7/039 601
, C08F 12/22
, C08F 20/22
, C08F 20/50
, C08L 25/18
, C08L 33/16
, C08L 33/22
, G03F 7/033
, H01L 21/027
FI (9件):
G03F 7/039 601
, C08F 12/22
, C08F 20/22
, C08F 20/50
, C08L 25/18
, C08L 33/16
, C08L 33/22
, G03F 7/033
, H01L 21/30 502 R
Fターム (113件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BF08
, 2H025BF09
, 2H025CB14
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025FA17
, 4J002BC11W
, 4J002BC12W
, 4J002BG03W
, 4J002BG04W
, 4J002BG05W
, 4J002BG07W
, 4J002BG08W
, 4J002BG08X
, 4J002BG11W
, 4J002BG11X
, 4J002BH01W
, 4J002BH02W
, 4J002EB116
, 4J002EB126
, 4J002EN136
, 4J002EQ016
, 4J002EU186
, 4J002EV216
, 4J002EV246
, 4J002EV266
, 4J002EV296
, 4J002EZ006
, 4J002FD200
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J002GQ05
, 4J100AB03P
, 4J100AB07P
, 4J100AC07P
, 4J100AC11P
, 4J100AC53P
, 4J100AE83P
, 4J100AK31Q
, 4J100AL03Q
, 4J100AL04Q
, 4J100AL08Q
, 4J100AL16Q
, 4J100AL26P
, 4J100AL26Q
, 4J100AL74P
, 4J100AL74Q
, 4J100AL75Q
, 4J100AL91Q
, 4J100AL92P
, 4J100AM01Q
, 4J100AM03P
, 4J100AM03Q
, 4J100BA04P
, 4J100BA04Q
, 4J100BA05Q
, 4J100BA06Q
, 4J100BA10P
, 4J100BA12Q
, 4J100BA14P
, 4J100BA14Q
, 4J100BA15P
, 4J100BA15Q
, 4J100BA16P
, 4J100BA16Q
, 4J100BA20P
, 4J100BA20Q
, 4J100BA22P
, 4J100BA41P
, 4J100BA41Q
, 4J100BA53P
, 4J100BA53Q
, 4J100BA55P
, 4J100BA58Q
, 4J100BA72Q
, 4J100BA76P
, 4J100BB03P
, 4J100BB03Q
, 4J100BB07P
, 4J100BB17P
, 4J100BB18P
, 4J100BC02P
, 4J100BC02Q
, 4J100BC03P
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04P
, 4J100BC04Q
, 4J100BC23P
, 4J100BC23Q
, 4J100BC43P
, 4J100BC43Q
, 4J100BC49P
, 4J100BC49Q
, 4J100BC53P
, 4J100BC53Q
, 4J100BC83P
, 4J100BC83Q
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100DA39
, 4J100JA37
, 4J100JA38
, 4J100JA46
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
感光性材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-185046
出願人:株式会社東芝
-
パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-167810
出願人:株式会社東芝
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