特許

J-GLOBAL ID：202003005933799951

ニッケル錯体、ニッケル錯体集積体、ジエチルエーテル吸着剤、ジエチルエーテル吸着方法およびジエチルエーテル脱離方法

発明者： 太田 俊 ,  岩渕 由理香
出願人/特許権者： 国立大学法人弘前大学
代理人 (1件)： 特許業務法人SSINPAT
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-170451
公開番号（公開出願番号）：特開2020-075906
出願日： 2019年09月19日
公開日（公表日）： 2020年05月21日
要約：

【課題】ガス吸着に比較的大きな圧力を必要とせず、ジエチルエーテルを捕捉することが可能なジエチルエーテル吸着剤、該ジエチルエーテル吸着剤を用いたジエチルエーテル吸着方法およびジエチルエーテル脱離方法の提供。【解決手段】ニッケルを中心として、2つの塩素原子が結合し、かつ2つのベンゾイミダゾリル基が配位したニッケル錯体であって、前記2つのベンゾイミダゾリル基が炭素原子を介して連結されたものであり、好ましくは下記化学式(1)で表される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ニッケルを中心として、2つの塩素原子が結合し、かつ2つのベンゾイミダゾリル基が配位したニッケル錯体であって、前記2つのベンゾイミダゾリル基が炭素原子を介して連結された、ニッケル錯体。

IPC (3件)：

C07D 235/20 ,  B01J 20/22 ,  B01J 20/34

FI (5件)：

C07D235/20 ,  B01J20/22 A ,  B01J20/22 C ,  B01J20/34 H ,  B01J20/34 Z

Fターム (16件)：

4G066AB10B ,  4G066AB12B ,  4G066AB24B ,  4G066BA32 ,  4G066BA36 ,  4G066BA38 ,  4G066CA56 ,  4G066DA01 ,  4G066DA07 ,  4G066GA01 ,  4G066GA31 ,  4G066GA32 ,  4G066GA33 ,  4G066GA40 ,  4H050AA01 ,  4H050AB80

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 新規後期遷移金属触媒錯体およびそれを用いて得られるオリゴマー
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-572440   出願人：エクソンモービルリサーチアンドエンジニアリングカンパニー
• 金属錯体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-120108   出願人：株式会社クラレ
• 金属錯体、該金属錯体の製造方法および吸着材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-089033   出願人：昭和電工株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Transition Metal Chemistry, 1988, vol.13 No.6, p.423-425