特許
J-GLOBAL ID:202003006060758338
硫化水素ガス製造プラント、硫化水素ガスの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
正林 真之
, 林 一好
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-207997
公開番号(公開出願番号):特開2020-075822
出願日: 2018年11月05日
公開日(公表日): 2020年05月21日
要約:
【課題】配管やポンプ等の磨耗を抑制して、安全性高く、安定的に硫化水素ガスを製造することができる硫化水素ガス製造プラント、硫化水素ガスの製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る硫化水素ガス製造プラント1は、硫黄と水素ガスとの反応により硫化水素ガスを発生させる反応設備11と、未反応の溶融硫黄を回収して冷却する硫黄冷却設備15と、反応設備11と硫黄冷却設備15とを接続し、その硫黄冷却設備15にて冷却して得られる液体硫黄をポンプ17により反応設備11に循環させる流送配管16と、を備えており、流送配管16の経路上において、ポンプ17よりも上流側の位置に、循環させる液体硫黄に含まれる固形分を分離する固形分分離設備18が設けられている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
硫黄と水素ガスとの反応により硫化水素ガスを発生させる反応設備と、
未反応の溶融硫黄を回収して冷却する硫黄冷却設備と、
前記反応設備と前記硫黄冷却設備とを接続し、該硫黄冷却設備にて冷却して得られる液体硫黄をポンプにより該反応設備に循環させる流送配管と、を備え、
前記流送配管の経路上において、前記ポンプよりも上流側の位置に、循環させる前記液体硫黄に含まれる固形分を分離する固形分分離設備が設けられている
硫化水素ガス製造プラント。
IPC (4件):
C01B 17/16
, C01B 17/027
, B01D 35/02
, F28D 7/16
FI (4件):
C01B17/16 A
, C01B17/027 M
, B01D35/02 B
, F28D7/16 D
Fターム (19件):
3L103AA12
, 3L103BB26
, 3L103DD06
, 4D116BB01
, 4D116KK06
, 4D116QA04C
, 4D116QA04E
, 4D116QA04G
, 4D116QA26C
, 4D116QA26D
, 4D116QA26G
, 4D116QB41
, 4D116TT05
, 4D116TT06
, 4D116UU12
, 4D116VV30
, 4K001AA19
, 4K001BA02
, 4K001DB24
引用特許: