特許
J-GLOBAL ID：202003006463429261
脱窒菌の増殖を制御する方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 柴山 健一
, 木元 克輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-172797
公開番号（公開出願番号）：特開2020-043776
出願日： 2018年09月14日
公開日（公表日）： 2020年03月26日
要約：
【課題】少ない光量で脱窒菌の増殖を制御することを目的とする。【解決手段】合成培地にて嫌気的脱窒条件下で培養される脱窒菌の増殖を制御する方法であって、脱窒菌に光を照射して脱窒菌の増殖を阻害する工程であって、照射する光は340nm〜480nmのいずれかの波長の光を含み、培地表面での放射照度は30mW/cm2以下である工程、を含む、方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
合成培地にて嫌気的脱窒条件下で培養される脱窒菌の増殖を制御する方法であって、
脱窒菌に光を照射して脱窒菌の増殖を阻害する工程であって、照射する光は340nm〜480nmのいずれかの波長の光を含み、培地表面での放射照度は30mW/cm2以下である工程、を含む、方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
4B065AA03X
, 4B065BC48
, 4B065CA54
出願人引用 (2件)
-
抗菌方法及び抗菌装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2017-050567
出願人：パナソニックIPマネジメント株式会社
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排水処理方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2009-181622
出願人：住友重機械工業株式会社
審査官引用 (2件)
-
抗菌方法及び抗菌装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2017-050567
出願人：パナソニックIPマネジメント株式会社
-
排水処理方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2009-181622
出願人：住友重機械工業株式会社
引用文献：
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